Journal de Physique IV

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Foreword

Préface p. V

Henri Bachau et Jörgen Stevefelt

Abstract

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Sources et impacts potentiels des micropolluants chimiques sur un écosystème littoral exploité : l'exemple des côtes des Charente-Maritime p. 3

P. Miramand, T. Guyot and J. Pigeot

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:20030584

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Des lasers à excimères pour cristalliser le silicium des écrans plats : pourquoi ? comment ? p. 9

C. Prat

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:20030585

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Micro-usinage nanoseconde UV ou femtoseconde : état de l'art et comparaison p. 13

J. Lopez, F. Salin, M.-C. Hernandez and M. Faucon

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:20030586

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Dépôt par ablation laser UV nanoseconde pour la réalisation de composants Télécom p. 19

C. Champeaux, T. Delage, J.C. Orlianges, A. Catherinot, A. Pothier, J.F. Seaux, P. Blondy, V. Madrangeas and D. Cros

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:20030587

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Formation et transformation de défauts ponctuels par insolation UV dans les diélectriques à base de silice : application à l'intégration de composants optiques sur fibre p. 23

A. Boukenter, F. Goutaland, H. Kuswanto, E. Marin, J.P. Meunier and Y. Ouerdane

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:20030588

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Diagnostic du plasma d'ablation laser pour la croissance de couches minces p. 29

A. Basillais, R. Benzerga, E. Le Menn, J. Mathias, C. Boulmer-Leborgne and J. Perrière

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:20030589

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Ablation laser femtoseconde pour le dépôt de DLC p. 33

A.-S. Loir, F. Garrelie, C. Donnet, F. Goutaland, M. Belin, J.-L. Subtil, R. Le Harzic, F. Rogemond, Y. Ouerdane and P. Laporte

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:20030590

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Ablation de ZnO par laser UV (193 nm) : nano-agrégats en phase gazeuse p. 37

I. Ozerov, A. Bulgakov, D. Nelson, R. Castell, M. Sentis and W. Marine

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:20030591

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Ablation de matériaux par laser femtoseconde p. 41

S. Bruneau, J. Hermann, T. Itina, M. Sentis, A. Semerok and W. Marine

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:20030592

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Ablation d'un film d'or par laser à excimère p. 45

M. Sentis, J. Hermann, A. Pereira, Ph. Delaporte, W. Marine, J. Perrière, L. Bianchi and R. Galli

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:20030593

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Traitement superficiel d'acier par laser excimère p. 49

A. Pereira, A. Cros, Ph. Delaporte, W. Marine and M. Sentis

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:20030594

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Décontamination nucléaire par laser UV p. 55

Ph. Delaporte, M. Gastaud, W. Marine, M. Sentis, O. Uteza, P. Thouvenot, J.L. Alcaraz, J.M. Le Samedy and D. Blin

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:20030595

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Étude des processus physico-chimiques dans un plasma produit par ablation laser pour la croissance de couches minces p. 59

C. Dutouquet and J. Hermann

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:20030596

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Films minces ferroélectriques Ba_2/3Sr_1/3TiO₃ par ablation laser pour applications hyperfréquences p. 63

T. Delage, C. Champeaux, A. Catherinot, J.F. Seaux, V. Madrangeas and D. Cros

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:20030597

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Optimisation des paramètres de dépôt de DLC par ablation laser U.V. de carbone vitreux p. 67

J.C. Orlianges, C. Champeaux, A. Catherinot and P. Blondy

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:20030598

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Caractérisation de jonctions ultra-minces réalisées par dopage laser p. 71

G. Kerrien, T. Sarnet, D. Débarre, M. Hernandez, D. Zahorski, J. Venturini, C. Laviron, M.N. Semeria and J. Boulmer

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:20030599

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Croissance en surfusion de métaborate de baryum par la méthode Czochralski p. 75

A. Maillard, H. Moussambi, R.S. Klein and K. Polgar

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:20030600

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Impulsions attosecondes p. 81

E. Mével, O. Tcherbakoff, D. Descamps, J. Plumridge and E. Constant

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:20030601

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Raccourcissement de la durée de l'émission harmonique par génération d'une porte temporelle p. 85

M. Kovacev, H. Merdji, E. Priori, Y. Mairesse, P. Monchicourt, P. Breger, O. Tcherbakoff, E. Mével, E. Constant, P. Salières et al. (2 more)

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:20030602

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Contrôle de la phase relative d'impulsions harmoniques à une échelle de temps attoseconde p. 89

J.-F. Hergott, M. Kovacev, F. Vernay, E. Priori, H. Merdji, P. Salières and B. Carré

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:20030603

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Confinement temporel de la génération d'harmoniques d'ordre élevé p. 93

O. Tcherbakoff, J. Plumridge, D. Descamps, E. Mével, F. Salin and E. Constant

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:20030604

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Génération d'harmoniques élevées limitée par l'absorption : le microjoule atteint à 53 nm p. 97

J.-F. Hergott, M. Kovacev, H. Merdji, C. Hubert, Y. Mairesse, E. Jean, P. Breger, P. Agostini, P. Salières and B. Carré

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:20030605

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Mesures d'autocorréiation dans l'UVX avec des harmoniques d'ordre élevé p. 101

M. Kovacev, H. Merdji, E. Priori, P. Monchicourt, P. Salières, B. Carré, J. Norin, A. Persson, A. L'Huillier and C.-G. Wahlström

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:20030606

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Étude de la génération d'harmoniques par des faisceaux tronqués p. 105

S. Kazamias, F. Weihe, D. Douillet, C. Valentin, T. Planchon, S. Sebban, G. Grillon, F. Augé, D. Hulin and Ph. Balcou

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:20030607

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Mesure de la dynamique couplée de propagation et d'ionisation d'une impulsion laser – Application au laser X-OFI ou à la génération d'harmoniques d'ordres élevés p. 109

C. Valentin, F. Weihe, S. Kazamias, R. Haroutunian, S. Sebban, G. Grillon, F. Augé, G. Chériaux, A. Rousse, D. Hulin and Ph. Balcou

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:20030608

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Photoémission de Csl induite par une impulsion laser intense femtoseconde p. 113

A. Belsky, A. Vasil'ev, B. Yatsenko, H. Bachau, P. Martin, G. Geoffroy and S. Guizard

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:20030609

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La photoémission VUV résolue en temps sur des solides isolants p. 119

G. Geoffroy, S. Guizard, A. Belsky, E. Constant, P. Martin and E. Mével

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:20030610

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Spectroscopie VUV sub-picoseconde : un détecteur haute cadence et un monochromateur pour impulsions femtosecondes p. 123

P. Martin, A. Belsky, E. Zinin, A. Philippov, M. Idir, T. Moreno, G. Darpentigny and F. Salin

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:20030611

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Spectroscopie résolue en temps par continuum femtoseconde Applications en neurobiologie p. 127

S. Ramstein and S. Mottin

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:20030612

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Mesure de la concentration absolue de SiO par spectroscopie d'absorption UV p. 131

F. Coursimault, O. Motret, R. Viladrosa and J.M. Pouvesle

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:20030613

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Mesure de la durée d'émission X de différents éléments irradies par un laser de puissance subpicoseconde p. 137

C. Chenais-Popovics, F. Dorchies, P. Audebert, V. Nagels, J.P. Geindre, J.C. Gauthier, O. Peyrusse, S. Gary and F. Girard

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:20030614

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Production d'électrons relativistes par interaction laser-plasma et application à la génération d'impulsions femtosecondes d'X dans le domaine du keV p. 143

J.-R. Marquès, P.-G. David, J. Faure, S. Fritzler, V. Malka, Z. Najmudin, A. Rousse, K. Ta Phuoc and B. Walton

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:20030615

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Imagerie médicale avec des sources X créées par laser p. 147

F. Dorchies, L.M. Chen, Z. Ichalalene, Z. Jiang, J.C. Kieffer, C.C. Chamberlain and A. Krol

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:20030616

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Lasers à électrons libres de courtes longueurs d'onde : état de l'art et perspectives p. 155

M.E. Couprie

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:20030617

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Lasers XUV collisionnels pompés par des lasers femtoseconde p. 161

S. Sebban, L.M. Upcraft, Ph. Balcou, M. Pittman, R. Haroutunian, G. Grillon, C. Valentin, A. Rousse, J.P. Rousseau, L. Notebaert et al. (7 more)

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:20030618

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De UVX 92 (premier laser X saturé) à UVX 2002 (LASERIX), le laser X devient un outil pour les applications scientifiques p. 165

G. Jamelot, D. Ros, A. Klisnick, Ph. Zeitoun, J. Dubau, J.-C. Lagron and L. Vanbostal

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:20030619

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Source par décharge capillaire pour la lithographie EUV p. 169

C. Cachoncinlle, E. Robert, O. Sarroukh, T. Gonthiez, R. Viladrosa, C. Fleurier and J.M. Pouvesle

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:20030620

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Réalisation de réseaux sur polymères par laser UV p. 173

M.C. Castex, A. Fischer, D. Simeonov, D. Adès and A. Siove

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:20030621

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Effet Auger généré par rayons X issus de l'explosion d'agrégats soumis à un champ laser intense p. 179

P. Palianov, J. Gaudin, P. Martin, H. Merdji, P. Meynadier and M. Perdrix

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:20030622

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Étude et développement d'un flash X rafale à foyer unique p. 183

M.M. Idrissi, R. Viladrosa, E. Robert, C. Cachoncinlle and J.M. Pouvesle

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:20030623

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Diagnostic X de la zone proche injecteur d'un jet cryogénique d'azote sous haute pression p. 187

B. Métay, E. Robert, R. Viladrosa, C. Cachoncinlle, J.M. Pouvesle, W. Mayer and G. Schneider

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:20030624

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Dynamique sub-picoseconde de l'interaction laser de puissance – agrégats de gaz rare : emission intense de rayons X et production d'ions multichargés p. 191

C. Prigent, L. Adoui, S. Dreuil, J.C. Gauthier, O. Gobert, E. Lamour, P. Meynadier, D. Normand, M. Perdrix, J.-P. Rozet and D. Vernhet

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:20030625

Free Access

Émission X(L) du xénon par interaction laser-agrégats p. 195

L. Adoui, O. Gobert, P. Indelicato, E. Lamour, P. Meynadier, D. Normand, M. Perdrix, C. Prigent, J.-P. Rozet and D. Vernhet

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:20030626

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Caractérisation de jets d'agrégats d'argon pour l'étude de l'interaction laser-agrégats p. 199

F. Blasco, T. Caillaud, F. Dorchies, C. Stenz, A.S. Boldarev and V.A. Gasilov

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:20030627

Free Access

Étude expérimentale de l'émission X d'agrégats nanométriques d'argon irradiés par une impulsion laser intense p. 203

T. Caillaud, F. Blasco, F. Dorchies, Y. Glinec, C. Stenz and J. Stevefelt

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:20030628

Free Access

Diagnostics d'imagerie X par microscopes X à miroirs développés dans le cadre du programme LIL p. 207

R. Rosch, J.-Y. Boutin, J.P. Le Breton, G. Lidove and N. Douvry

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:20030629

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Amplification de Bragg de la raie Si Kα émise par une multicouche Mo/Si irradiée par un faisceau d'électrons : vers un laser X à rétroaction distribuée ? p. 211

P. Jonnard, J.-M. André, C. Bonnelle, F. Bridou and B. Pardo

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:20030630

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Le projet français PREUVE, projet d'études et de développement pour la lithographie extrême ultraviolet p. 217

P. Boher, V. Paret, J.-Y. Robic, R. Marmoret, M. Schmidt, C. Cachoncinlle, R. Geyl, J.-J. Fermé, B. Vidal and J.-M. Barbiche

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:20030631

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Imageur diamant et nitrures pour l'observation UV du soleil p. 227

J.-F. Hochedez, T. Appourchaux, A. Belsky, M.C. Castex, A. Deneuville, P. Dhez, B. Fleck, O. Hainaut, M. Idir, J.-P. Kleider et al. (10 more)

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:20030632

Free Access

Microscopie non linéaire p. 233

L. Canioni, R. Barillé, A. Brocus and L. Sarger

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:20030633

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Photochimie supramoléculaire et complexes de coordination p. 239

E. Amouyal

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:20030634

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L'accélérateur d'électrons picoseconde ELYSE à Orsay p. 243

J. Belloni, M. Gaillard, H. Monard, M. Mostafavi, I. Lampre, H. Remita, J.L. Marignier, J.C. Bourdon and T. Garvey

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:20030635

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5 W à 255 nm et 15 kHz obtenus par doublage de fréquence d'un laser CuHBr dans du BBO p. 247

N. Huot, C. Jonin, R. Le Harzic, E. Audouard and P. Laporte

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:20030636

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Intérêt des multicouches constituées de matériaux légers pour la réalisation d'optiques X-UV autour de 40 eV p. 251

F. Bridou, M.F. Ravet, F. Delmotte, X. Song and A. Jerome

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:20030637

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Dépôt et calibration de multicouches pour l'optique XUV dans la gamme 10–30 nm p. 255

F. Delmotte, M.F. Ravet, F. Bridou, X. Song, A. Jerome, S. Boujdayane, S. Hubert, Ph. Zeitoun, M. Idir and P. Troussel

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:20030638

Free Access

CAPELLA : une source de rayonnement extrême UV à 13.5 nm par décharge capillaire p. 259

O. Sarroukh, E. Robert, T. Gonthiez, A.L. Thomann, R. Viladrosa, C. Fleurier, J.M. Pouvesle and C. Cachoncinlle

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:20030639

Free Access

Étude théorique et expérimentale d'une source EUV par décharge capillaire p. 263

J. Pons, K. Lan, C. Cachoncinlle, E. Robert, R. Viladrosa, J.M. Pouvesle and C. Fleurier

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:20030640

Free Access

Développement d'une source EUV plasma laser pour la micro-lithographie p. 267

M. Segers, M. Bougeard, E. Caprin, T. Ceccotti, F. Chichmanian, D. Descamps, P. Haltebourg, J.-F. Hergott, S. Hulin, D. Normand et al. (2 more)

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:20030641

Free Access

Un modèle collisionnel radiatif appliqué à l'étude des lampes à décharge gaz rare “basse pression” p. 271

T. Bezanahary and G. Zissis

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:20030642

Free Access

Développement d'une source plasma-laser pour la lithographie dans l'extrême ultraviolet p. 275

G. Soullié, C. Lafon, R. Rosch, D. Babonneau, F. Garaude, S. Huelvan, T. Trublet, L. Bonnet and R. Marmoret

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:20030643

Free Access

Étude et développement d'une source de pompage optique VUV de forte puissance pour l'amplification d'impulsions laser femtosecondes sur la transition XeF(C-A) p. 281

V.I. Tcheremiskine, M. Sentis, L.D. Mikheev and R. Clady

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:20030644

Free Access

Une source de rayonnement développée pour des mesures optiques de spectroscopie d'absorption large bande p. 285

D. Hong, G. Sandolache, T. Capelle, J.M. Bauchire, E. Le Menn and C. Fleurier

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:20030645

Journal de Physique IV (Proceedings)

Volume 108 (juin 2003)

Préface p. V

Sources et impacts potentiels des micropolluants chimiques sur un écosystème littoral exploité : l'exemple des côtes des Charente-Maritime p. 3

Des lasers à excimères pour cristalliser le silicium des écrans plats : pourquoi ? comment ? p. 9

Micro-usinage nanoseconde UV ou femtoseconde : état de l'art et comparaison p. 13

Dépôt par ablation laser UV nanoseconde pour la réalisation de composants Télécom p. 19

Formation et transformation de défauts ponctuels par insolation UV dans les diélectriques à base de silice : application à l'intégration de composants optiques sur fibre p. 23

Diagnostic du plasma d'ablation laser pour la croissance de couches minces p. 29

Ablation laser femtoseconde pour le dépôt de DLC p. 33

Ablation de ZnO par laser UV (193 nm) : nano-agrégats en phase gazeuse p. 37

Ablation de matériaux par laser femtoseconde p. 41

Ablation d'un film d'or par laser à excimère p. 45

Traitement superficiel d'acier par laser excimère p. 49

Décontamination nucléaire par laser UV p. 55

Étude des processus physico-chimiques dans un plasma produit par ablation laser pour la croissance de couches minces p. 59

Films minces ferroélectriques Ba2/3Sr1/3TiO3 par ablation laser pour applications hyperfréquences p. 63

Optimisation des paramètres de dépôt de DLC par ablation laser U.V. de carbone vitreux p. 67

Caractérisation de jonctions ultra-minces réalisées par dopage laser p. 71

Croissance en surfusion de métaborate de baryum par la méthode Czochralski p. 75

Impulsions attosecondes p. 81

Raccourcissement de la durée de l'émission harmonique par génération d'une porte temporelle p. 85

Contrôle de la phase relative d'impulsions harmoniques à une échelle de temps attoseconde p. 89

Confinement temporel de la génération d'harmoniques d'ordre élevé p. 93

Génération d'harmoniques élevées limitée par l'absorption : le microjoule atteint à 53 nm p. 97

Mesures d'autocorréiation dans l'UVX avec des harmoniques d'ordre élevé p. 101

Étude de la génération d'harmoniques par des faisceaux tronqués p. 105

Mesure de la dynamique couplée de propagation et d'ionisation d'une impulsion laser – Application au laser X-OFI ou à la génération d'harmoniques d'ordres élevés p. 109

Photoémission de Csl induite par une impulsion laser intense femtoseconde p. 113

La photoémission VUV résolue en temps sur des solides isolants p. 119

Spectroscopie VUV sub-picoseconde : un détecteur haute cadence et un monochromateur pour impulsions femtosecondes p. 123

Spectroscopie résolue en temps par continuum femtoseconde Applications en neurobiologie p. 127

Mesure de la concentration absolue de SiO par spectroscopie d'absorption UV p. 131

Mesure de la durée d'émission X de différents éléments irradies par un laser de puissance subpicoseconde p. 137

Production d'électrons relativistes par interaction laser-plasma et application à la génération d'impulsions femtosecondes d'X dans le domaine du keV p. 143

Imagerie médicale avec des sources X créées par laser p. 147

Lasers à électrons libres de courtes longueurs d'onde : état de l'art et perspectives p. 155

Lasers XUV collisionnels pompés par des lasers femtoseconde p. 161

De UVX 92 (premier laser X saturé) à UVX 2002 (LASERIX), le laser X devient un outil pour les applications scientifiques p. 165

Source par décharge capillaire pour la lithographie EUV p. 169

Réalisation de réseaux sur polymères par laser UV p. 173

Effet Auger généré par rayons X issus de l'explosion d'agrégats soumis à un champ laser intense p. 179

Étude et développement d'un flash X rafale à foyer unique p. 183

Diagnostic X de la zone proche injecteur d'un jet cryogénique d'azote sous haute pression p. 187

Dynamique sub-picoseconde de l'interaction laser de puissance – agrégats de gaz rare : emission intense de rayons X et production d'ions multichargés p. 191

Émission X(L) du xénon par interaction laser-agrégats p. 195

Caractérisation de jets d'agrégats d'argon pour l'étude de l'interaction laser-agrégats p. 199

Étude expérimentale de l'émission X d'agrégats nanométriques d'argon irradiés par une impulsion laser intense p. 203

Diagnostics d'imagerie X par microscopes X à miroirs développés dans le cadre du programme LIL p. 207

Amplification de Bragg de la raie Si Kα émise par une multicouche Mo/Si irradiée par un faisceau d'électrons : vers un laser X à rétroaction distribuée ? p. 211

Le projet français PREUVE, projet d'études et de développement pour la lithographie extrême ultraviolet p. 217

Imageur diamant et nitrures pour l'observation UV du soleil p. 227

Microscopie non linéaire p. 233

Photochimie supramoléculaire et complexes de coordination p. 239

L'accélérateur d'électrons picoseconde ELYSE à Orsay p. 243

5 W à 255 nm et 15 kHz obtenus par doublage de fréquence d'un laser CuHBr dans du BBO p. 247

Intérêt des multicouches constituées de matériaux légers pour la réalisation d'optiques X-UV autour de 40 eV p. 251

Dépôt et calibration de multicouches pour l'optique XUV dans la gamme 10–30 nm p. 255

CAPELLA : une source de rayonnement extrême UV à 13.5 nm par décharge capillaire p. 259

Étude théorique et expérimentale d'une source EUV par décharge capillaire p. 263

Développement d'une source EUV plasma laser pour la micro-lithographie p. 267

Un modèle collisionnel radiatif appliqué à l'étude des lampes à décharge gaz rare “basse pression” p. 271

Développement d'une source plasma-laser pour la lithographie dans l'extrême ultraviolet p. 275

Étude et développement d'une source de pompage optique VUV de forte puissance pour l'amplification d'impulsions laser femtosecondes sur la transition XeF(C-A) p. 281

Une source de rayonnement développée pour des mesures optiques de spectroscopie d'absorption large bande p. 285

Films minces ferroélectriques Ba_2/3Sr_1/3TiO₃ par ablation laser pour applications hyperfréquences p. 63