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Foreword
Numéro
J. Phys. IV France
Volume 108, juin 2003
Page(s) V - V
UVX 2002 - 6e Colloque sur les Sources cohérentes et incohérentes UV, VUV et X Applications et développements récents
H. Bachau, J. Stevefelt
J. Phys. IV France
108 (2003) V

Préface

Henri Bachau et Jörgen Stevefelt

Résumé
UVX 2002, sixième édition du "Colloque sur les Sources Cohérentes et Incohérentes UV, VUV, et X : Applications et Développements Récents" s'est tenu du 11 au 14 juin 2002 au Centre CAES du CNRS "La Vieille, Perrotine", à Saint-Pierre d'Oléron. Le colloque a réunni une centaine de chercheurs et d'industriels et a permis de faire le point sur la production, la caractérisation et l'utilisation de rayonnement dans un domaine spectral s'étendant de l'ultraviolet aux rayons X. Les participants ont pu assister a trente conférences et une table ronde autour des problèmes locaux de pollution, une cinquantaine d'affiches ont été présentées au travers de deux sessions. Une douzaine d'industriels ont exposé leurs produits durant les séances d'affiches.

Conformément aux éditions précédentes, les domaines couverts par le colloque UVX 2002 sont très variés et il est impossible de les résumer en quelques lignes. Parmi les activités en développement rapide on notera les lasers femtosecondes dont les applications se multiplient dans les laboratoires (propriétés des molécules, agrégats et solides), dans l'industrie (usinage, ablation...) et en médecine. L'absence de thermalisation ou de diffusion thermique ouvre aussi des perspectives pour la réalisation de films minces par ablation laser, un domaine où les lasers excimères sont traditionnellement utilisés, avec des applications importantes dans le secteur des télécommunications. Dans le domaine de l'extrème UV, des progrès significatifs ont été réalisés par plusieurs groupes dans la gamme de longueur d'onde de 5 à 20 nm, ouvrant ainsi la voie au développement industriel de la lithographie EUV. On note les progrès dans la réalisation des sources UV et X (laser X, génération d'harmoniques, laser a électrons libres) et la nécessité de développer des optiques adaptées. Une perspective intéressante, ouverte par la génération d'harmoniques, est la production d'impulsions attosecondes qui permettra d'explorer la matière à l'echelle de temps atomique. En même temps la caractérisation de ces impulsions nécessite la conception de techniques nouvelles d'analyse du signal aux temps ultra brefs.

L'intéret particulier du colloque UVX est de réunir les communautés de scientifiques qui vont des chercheurs s'intéressant aux processus fondamentaux à ceux travaillant dans les domaines les plus appliqués, voire industriels. Une caractéristique marquante de notre discipline est la rapidité avec laquelle les progrès réalisés dans les laboratoires de recherche sont diffusés vers les applications industrielles. Il est donc important de maintenir un bon équilibre entre les recherches a caractères fondamental et appliqué dans les laboratoires.

Nous tenons remercier les membres du comité d'organisation, le comité scientifique et les différents partenaires, institutionnels et industriels, qui par leur soutien ont permis que le colloque UVX puisse se dérouler. Ce colloque a été parrainé par les départements des Sciences Physiques et Mathématiques (SPM) et des Sciences pour l'Ingénieur (SPI) du CNRS, la Délégation Générale de l'Armement (DGA), le CEA DRECAM, le CEA DAM, le Conseil Géneral de Charente Maritime, l'Université de Bordeaux I, la Société Française d'optique, le Groupement de Recherche "SAXO" du CNRS et la société Air Liquide.



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