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J. Phys. IV France
Volume 108, juin 2003
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Page(s) | 281 - 284 | |
DOI | https://doi.org/10.1051/jp4:20030644 |
J. Phys. IV France 108 (2003) 281
DOI: 10.1051/jp4:20030644
Étude et développement d'une source de pompage optique VUV de forte puissance pour l'amplification d'impulsions laser femtosecondes sur la transition XeF(C-A)
V.I. Tcheremiskine1, M. Sentis1, L.D. Mikheev2 and R. Clady11 Laboratoire Lasers, Plasmas et Procédés Photoniques, LP3, FRE 2165 du CNRS, Université d'Aix-Marseille II, Campus de Luminy, Case 917, 13288 Marseille cedex 9, France
2 Laboratoire des Processus Photochimiques, Institut de Physique P.N. Lebedev, Leninsky Prospekt 53, Moscou 119991, Russie
Résumé
Le rayonnement UV-VUV issu d'un plasma généré par une décharge électrique de forte
puissance dans un milieu gazeux (ici XeF
2) est capable d'exciter de grands volumes de différents milieux
lasers. Nous présentons une nouvelle source optique UV-VUV de forte puissance basée sur une décharge
multi-canaux réalisée sur la surface d'un diélectrique ainsi que les premiers résultats d'amplification
d'impulsions femtosecondes obtenus dans le milieu actif d'un laser photolytique XeF(C-A). Ce milieu est
très attractif pour développer des systèmes lasers hybrides de forte puissance (petawatt) dans le domaine
du visible. En effet, la transition XeF(C-A) est caractérisée par une bande spectrale très large dans le
bleu-vert (460-520 nm) permettant d'amplifier des impulsions optiques d'une durée de l'ordre de 10 fs.
© EDP Sciences 2003