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Numéro |
J. Phys. IV France
Volume 108, juin 2003
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Page(s) | 67 - 70 | |
DOI | https://doi.org/10.1051/jp4:20030598 |
J. Phys. IV France 108 (2003) 67
DOI: 10.1051/jp4:20030598
Optimisation des paramètres de dépôt de DLC par ablation laser U.V. de carbone vitreux
J.C. Orlianges1, C. Champeaux1, A. Catherinot1 and P. Blondy21 Sciences des Procédés Céramiques et de Traitements de Surface, SPCTS, UMR 6638 du CNRS, Faculté des Sciences et Techniques, 123 avenue Albert Thomas, 87060 Limoges cedex, France
2 Institut de Recherches sur les Communications Optiques et Microondes, IRCOM, UMR 6615 du CNRS, Faculté des Sciences et Techniques, 123 avenue Albert Thomas, 87060 Limoges cedex, France
Résumé
Les couches de carbone tétraédrique réalisées par ablation laser (PLD) à forte fluence présentent des propriétés physiques
particulièrement intéressantes. Toutefois, dans ces conditions, l'ablation de cibles de graphite
s'accompagne de l'éjection de particules solides qui nuisent aux qualités des films. L'utilisation de cibles de carbone
vitreux, dans des conditions particulières, permet d'éviter cet écueil. Nous présentons une étude du panache
d'ablation par laser KrF d'une cible de carbone vitreux par imagerie résolue en temps et spectralement. les résultats
sont comparés à ceux obtenus avec une cible de graphite.
© EDP Sciences 2003