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| Numéro |
J. Phys. IV France
Volume 108, juin 2003
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| Page(s) | 169 - 172 | |
| DOI | https://doi.org/10.1051/jp4:20030620 | |
J. Phys. IV France 108 (2003) 169
DOI: 10.1051/jp4:20030620
Source par décharge capillaire pour la lithographie EUV
C. Cachoncinlle, E. Robert, O. Sarroukh, T. Gonthiez, R. Viladrosa, C. Fleurier and J.M. PouvesleGREMl ESPEO, Université d'Orléans, 14 rue d'Issoudun, BP. 6744, 45067 Orléans cedex 02, France
Résumé
Dans ce travail, nous présentons les caractéristiques de la lampe à décharge capillaire Capella. Cette source de rayonnement
E W peut produire un flux de photon supérieur au Watt (2% BW, 13.5 nm) avec un rendement à la prise de courant de plus de
0.1%. Elle fonctionne soit en mode pulsé à 150 Hz soit en rafale en générant des trains d'impulsion au kilohertz. La stabilité
spatiale de la source est meilleure que 50pm et sa stabilité temporelle atteint 0.3%. La longévité de la source est supérieure
à 10
7 tirs.
© EDP Sciences 2003