| Numéro |
J. Phys. IV France
Volume 108, juin 2003
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| Page(s) | 29 - 32 | |
| DOI | https://doi.org/10.1051/jp4:20030589 | |
J. Phys. IV France 108 (2003) 29
DOI: 10.1051/jp4:20030589
Diagnostic du plasma d'ablation laser pour la croissance de couches minces
A. Basillais1, R. Benzerga1, E. Le Menn1, J. Mathias1, C. Boulmer-Leborgne1 and J. Perrière21 GREMI, Université d'Orléans, 14 rue d'Issoudun, BP. 6744, 45067 Orléans cedex 2, France
2 GPS, Universités Paris VI - Paris VII, Tour 23, 2 place Jussieu, 75251 Paris cedex 05, France
Résumé
Dans ce travail, nous nous sommes intéressés à la croissance de films de nitrure d'aluminium
par ablation laser d'une cible d'aluminium assistée par un plasma d'azote créé par une décharge RF.
Parallèlement, la spectroscopie d'émission a été largement utilisée pour le diagnostic de la plume plasma et du
plasma de décharge RF afin de trouver des informations permettant de suivre le phénomène de croissance et qui
seraient la signature d'un film de bonne stoechiométrie et qualité cristalline ou son contraire. Ainsi, l'étude de
l'émission de la raie d'oxygène à 777 nm dans le plasma d'ablation laser a permis d'expliquer le mécanisme de
contamination des films par l'oxygène. De la même façon, nous nous sommes intéressés à l'émission de l'azote
atomique dans la plume plasma et proche du substrat, dans la zone sombre où ces espèces participent
directement à la croissance du film. Ainsi l'étude parallèle de l'influence des paramètres expérimentaux sur la
qualité des films et sur la composition du plasma nous a permis d'optimiser le dispositif expérimental.
© EDP Sciences 2003