J. Phys. IV France 108 (2003) 217
DOI: 10.1051/jp4:20030631

Le projet français PREUVE, projet d'études et de développement pour la lithographie extrême ultraviolet

P. Boher¹, V. Paret¹, J.-Y. Robic², R. Marmoret³, M. Schmidt⁴, C. Cachoncinlle⁵, R. Geyl⁶, J.-J. Fermé⁷, B. Vidal⁸ and J.-M. Barbiche<sup>9

1</sup>  SOPRA, 26 rue Pierre Joigneaux, 92270 Bois-Colombes, France
²  CEA/LETI, 17 rue des Martyrs, 38054 Grenoble cedex 9, France
³  CEA/DAM en Ile-de-France, DIF/Département CRE, BP. 12, 91380 Bruyères-le-Châtel, France
⁴  CEA-DSM/DRECAM/SPAM, CE-Saclay, bâtiment 522, 91191 Gif-sur-Yvette, France
⁵  GREMI-ESPEO, 14 rue d'Issoudun, BP. 6744, 45067 Orléans, France
⁶  SAGEM SA, REOSC Products, Division Défense et Sécurité, 61 rue Salvador Allende, 92751 Nanterre, France
⁷  SESO, 305 rue Louis Armand, BP. 55000, 13792 Aix-en-Provence, France
⁸  LORXN/L3M/LOE, Case 22, Faculté des Sciences de Saint-Jérôme, avenue E. Niemen, 13397 Marseille, France
⁹  THALES Laser SA, Domaine de Corbeville, RD. 128, BP. 46, 91401 Orsay cedex, France

Résumé
PREUVE est un projct fédérateur d'acteurs Français (groupes industriels, PME, Laboratoires de Recherche publics et universitaires). Il se situe dans le cadre du développement de la prochaine génération de lithographie pour fa micro-électronique avancée, et en particulier la réalisation de circuits aux dimensions sub-micrométriques. Les développements réalisés dans le cadre de PREUVE portent sur plusieurs points clés de la lithographie extrême ultraviolet (EUV) : L'article ci-après résume quelques points clés de ce projet réunis autour d'un descriptif du banc d'essai de lithographie qui fédère l'essentiel des efforts du programme.

© EDP Sciences 2003