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J. Phys. IV France
Volume 108, juin 2003
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| Page(s) | 131 - 134 | |
| DOI | https://doi.org/10.1051/jp4:20030613 | |
J. Phys. IV France 108 (2003) 131
DOI: 10.1051/jp4:20030613
Mesure de la concentration absolue de SiO par spectroscopie d'absorption UV
F. Coursimault, O. Motret, R. Viladrosa and J.M. PouvesleGREMI, UMR 6606, Université d'Orléans, BP. 6759, 45067 Orléans cedex 2, France
Résumé
Le but de cette étude est de développer un diagnostic de mesure de concentration de Si0 adapté à un
procédé industriel de dépôt d'oxydes de silicium sur polymères par décharge a barrière diélectrique atmosphérique
(DBD). Deux méthodes spectroscopiques basées sur des techniques d'absorption et d'auto-absorption ont été
développées. La concentration de Si0 a été estimée par ajustement des spectres synthétiques calculés sur les
spectres expérimentaux. Ces deux méthodes permettent de suivre l'évolution temporelle de Si0 durant les phases de
décharge et de post-décharge.
© EDP Sciences 2003