Journal de Physique IV

Accès gratuit

Tubes à rayons X à micropointes p. Pr7-3

R. Baptist, J. F. Boronat, R. Meyer, P. Nicolas, D. Sarrasin, J. Duval et A. Baffert-Rey

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:2001701

Accès gratuit

Source compacte de rayons X p. Pr7-5

M. Ganciu, A. M. Pointu et M. Nistor

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:2001702

Accès gratuit

Production de rayons X par interaction laser femtoseconde - agrégats de gaz rare p. Pr7-7

E. Lamour, D. Vernhet, J.-P. Rozet, S. Dobosz, M. Lezius, M. Schmidt, D. Normand, J.-C. Gauthier, S. Jacquemot, M. Cornille et J. Dubau

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:2001703

Accès gratuit

Étude et modélisation du front d'onde des nouvelles sources XUV p. Pr7-9

S. Le Pape, Ph. Zeitoun, J.-F. Hergott, B. Carré, P. Dhez, M. François, M. Idir, H. Merdji, D. Ros, A. Carillon et P. Salières

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:2001704

Accès gratuit

Modélisation de la cohérence spatiale des lasers X-UV p. Pr7-15

D. Ros, O. Larroche, A. Klisnick, A. Sureau, C. Möller et H. Guennou

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:2001705

Accès gratuit

Effet de la redistribution en fréquence sur les profils d'intensité de la raie à 182 Å du C⁵⁺ p. Pr7-19

C. Mossé, A. Calisti, B. Talin, D. Benredjem, A. Sureau, C. Möller et A. Demir

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:2001706

Accès gratuit

Miroir simple-ou multi-couches à courbure variable pour microfocalisation de rayonnement synchrotron X p. Pr7-21

E. Ziegler, O. Hignette, Ch. Morawe et R. Tucoulou

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:2001707

Accès gratuit

Calibration de lames de phase par interférométrie à 13 nm p. Pr7-25

P. Pichon, D. Joyeux, D. Phalippou, M. Singh, J . Braat, M . Haidl et U. Dinger

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:2001708

Accès gratuit

Interaction laser - métal en présence de plasmons de surface : vers une source de rayonnement UV et X p. Pr7-27

S. Bastiani, J. Kupersztych, P. Monchicourt et M. Raynaud

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:2001709

Accès gratuit

Décharge capillaire compacte et ultra-brève pour la lithographie UV extrême par projection p. Pr7-29

P. Choi, I. Krisch, J. Larour, C. Dumitrescu, M. Favre, A. Chuvatin, J. Rous, C. Leblanc et A. Guilbert

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:2001710

Accès gratuit

Source de photons X mous à haute brillance par décharge microcapillaire p. Pr7-31

T.N. Hansen, J. Castro, A. Guilbert, I. Krisch, A. Engel, J. Larour, P. Choi et J.G. Lunney

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:2001711

Accès gratuit

Formation du plasma dans une décharge capillaire rapide assistée par effet de cathode creuse p. Pr7-33

I. Krisch, P. Choi, J. Larour, J. Rous, C. Dumitrescu, A. Chuvatin, S. Zakharov, C. Leblanc et M. Favre

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:2001712

Accès gratuit

Expérience et simulation d'une décharge capillaire ablative pour la production de rayonnement UVX cohérent et incohérent p. Pr7-35

R. Dussart, S. Götze, D. Hong, J. Pons, C. Cachoncinlle, C. Fleurier, J.-M. Pouvesle et M. Pöckl

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:2001713

Accès gratuit

Développement d'un générateur de type Blumlein pour des sources EUV à décharges capillaires rapides p. Pr7-37

S. Götze, D. Hong, R. Dussart, C. Cachoncinlle, J. Pons, J.-M. Pouvesle, C. Fleurier et R. Viladrosa

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:2001714

Accès gratuit

Performances obtenues sur SU5 : une ligne VUV à haute résolution et à polarisation variable p. Pr7-41

L. Nahon

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:2001715

Accès gratuit

Le laser à électrons libres UV de super-ACO : source et applications p. Pr7-45

L. Nahon, E. Renault, D. Nutarelli, D. Garzella, G. De Ninno, M. Hirsch et M.E. Couprie

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:2001716

Accès gratuit

Méthode originale d'amplification régénératrice avec un laser XeCl : application à la lithographie EUV p. Pr7-47

S. Branly et M. Makarov

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:2001717

Accès gratuit

Modélisation de l'amplification d'une impulsion laser UV nanoseconde dans un milieu à excimères p. Pr7-51

O. Utéza, M. Boyomo-Onana, Ph. Delaporte, N. Destouches, B. Fontaine, M. Sabonnadière et M.L. Sentis

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:2001718

Accès gratuit

Topographie multi-échelle pour le filtrage optique multicouche large-bande p. Pr7-53

C. Amra, C. Deumié, J.Y. Natoli et M. Commandré

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:2001719

Accès gratuit

Potentialités de cristaux dopés Pr³⁺ pour la réalisation de sources laser à solide UV accordables p. Pr7-57

S. Nicolas, Y. Guyot, M .F. Joubert et E. Descroix

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:2001720

Accès gratuit

Microcavités à polymères du carbazole : vers des lasers plastiques bleus p. Pr7-61

C. Olivero, M.C. Castex, G. Pichler, D. Adès, E. Cloutet et A. Siove

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:2001721

Accès gratuit

Étude d'une nouvelle source optique UV-VUV basée sur une décharge multicanaux de forte puissance p. Pr7-63

V.I. Tcheremiskine, M.L. Sentis, L.D. Mikheev et M. Sabonnadière

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:2001722

Accès gratuit

Optimisation d'une source d'ultraviolet fonctionnant dans un réacteur de traitement d'eau de consommation p. Pr7-65

C. Costache Mongrand, J.J. Damelincourt et G. Zissis

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:2001723

Accès gratuit

Source UVX cohérente et ultrabrève par génération d'harmoniques d'un laser intense p. Pr7-69

P. Salières, J.-F. Hergott, H. Merdji, L. Le Déroff et B. Carré

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:2001724

Accès gratuit

Source UVX par génération d'harmoniques d'ordre élevé : applications potentielles à la physique des surfaces p. Pr7-73

D. Riedel, J.L. Hernandez-Pozos, K.W. Kolasinski, S. Baggott et R.E. Palmer

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:2001725

Accès gratuit

Utilisation d'impulsions UV femtosecondes pour l'étude de la relaxation électronique dans SiO₂ p. Pr7-77

F. Quéré, S. Guizard, P. Martin, G. Petite, B. Carré, J.-F. Hergott, H. Merdji et P. Salières

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:2001726

Accès gratuit

Nouvelles perspectives de diagnostics de plasmas denses par génération d'harmoniques d'ordre élevé p. Pr7-81

H. Merdji, P. Salières, J.-F. Hergott, P. Monot, P. d'Oliveira, T. Auguste, B. Carré, D. Descamps, C. Lyngå, J. Norin et al. (5 de plus)

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:2001727

Accès gratuit

Les dépôts en couches minces par ablation laser en régime d'impulsions ultra-courtes : état de l'art et perspectives p. Pr7-87

E. Fogarassy

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:2001728

Accès gratuit

Micro-usinage par impulsions laser ultra-courtes p. Pr7-93

E. Baubeau, R. Le Harzic, E. Audouard, C. Jonin, M. Courbon, S. Mottin et P. Laporte

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:2001729

Accès gratuit

Ablation laser femtoseconde du carbone : étude du panache plasma et dépôt de couches minces p. Pr7-95

F. Garrelie, C. Jonin, A. Catherinot, C. Champeaux, E. Baubeau, E. Audouard, S. Mottin et P. Laporte

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:2001730

Accès gratuit

Croissance épitaxiale de films minces de ZnO obtenus par ablation laser femtoseconde p. Pr7-97

E. Millon, O. Albert, J.C. Loulergue, J. Etchepare, D. Hulin, W. Seiler et J. Perrière

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:2001731

Accès gratuit

Simulation d'étirement d'impulsions brèves p. Pr7-99

J.C. Venturino

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:2001732

Accès gratuit

Dopage laser pour la microélectronique du futur p. Pr7-103

J. Boulmer, D. Débarre, A. Grouillet et D. Lenoble

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:2001733

Accès gratuit

L'ablation des polymères par irradiation laser excimère : le processus physique et la structure du polymère p. Pr7-107

D. Martinez, Cl. Dicara, Fr. Hanus, K. Kolev et L.D. Laude

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:2001734

Accès gratuit

Modélisation numérique de la formation d'un plasma induit par ablation laser UV (193 nm) p. Pr7-111

J.D. Parisse, D.E. Zeitoun, W. Marine et M.L. Sentis

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:2001735

Accès gratuit

Ablation laser d'oxydes : étude du transfert de l'oxygène lors de la synthèse de films minces p. Pr7-113

E. Millon

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:2001736

Accès gratuit

Ablation laser par laser UV impulsionnel : principale approche pour la synthèse controlée des nanostructures de silicium p. Pr7-119

L. Patrone, W. Marine, V.I. Safarov et M.L. Sentis

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:2001737

Accès gratuit

Interaction des photons UV avec le silicium massif et nanocristallin p. Pr7-121

L. Patrone, I. Ozerov, M.L. Sentis et W. Marine

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:2001738

Accès gratuit

Étude de la désorption laser UV d'une surface de silicium p. Pr7-125

T. Gonthiez, T. Gibert et P. Brault

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:2001739

Accès gratuit

Nettoyage de surfaces de grandes dimensions par laser à excimères p. Pr7-127

M.L. Sentis, Ph. Delaporte, M. Gastaud, W. Marine et O. Utéza

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:2001740

Accès gratuit

Carburation d'alliage d'aluminium par traitement de surface par laser excimère p. Pr7-129

F. Fariaut, C. Boulmer-Leborgne, C. Langlade et T. Sauvage

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:2001741

Accès gratuit

Amélioration de la tenue à la corrosion atmosphérique des matériaux utilisés en connectique. Traitements de surface par laser p. Pr7-131

C. Georges, C. Perrin, D. Simon, F. Fariaut et C. Boulmer-Leborgne

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:2001742

Accès gratuit

Applications des plasmas produits par le laser à excimères HERCULES-L : du recuit du silicium à la lithographie par rayons X p. Pr7-133

S. Bollanti, F. Bonfigli, P. Di Lazzaro, A. Faenov, F. Flora, G. Giordano, T. Letardi, T. Limongi, L. Mezi, D. Murra et al. (9 de plus)

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:2001743

Accès gratuit

Spectrométrie Raman de résonance picoseconde : principe et application à l'analyse structurale d'intermédiaires réactionnels en solution p. Pr7-137

V. De Waele, O. Poizat et G. Buntinx

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:2001744

Accès gratuit

Purification d'air par photocatalyse hétérogène p. Pr7-141

P. Pichat

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:2001745

Accès gratuit

Contrôle et traitement des eaux et des effluents par techniques UV p. Pr7-145

O. Thomas, B. Roig et M.-F. Pouet

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:2001746

Accès gratuit

Ionisations K sur l'ADN : mort cellulaire et aberrations chromosomiques p. Pr7-149

A. Chetioui, B. Fayard, M.A. Hervé du Penhoat, A. Touati, M.F. Politis, F. Abel, F. Gobert, C. Champion et A. L'Hoir

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:2001747

Accès gratuit

XMM-Newton : un observatoire européen pour l'astronomie X p. Pr7-155

P. Ferrando

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:2001748

Accès gratuit

Quelques exemples récents d'utilisation de méthodes d'examen ou d'analyse des matériaux du patrimoine culturel mettant en œuvre des rayons X p. Pr7-159

J.-L. Boutaine

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:2001749

Accès gratuit

Imagerie à l'échelle atomique par holographie de fluorescence p. Pr7-165

S. Marchesini, G. Faigel, M. Tegze, M. Belakhovsky et O. Ulrich

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:2001750

Accès gratuit

Développement de la radiographie X éclair et de l'imagerie de fluorescence induite par X pour la caractérisation de milieux fluides p. Pr7-171

E. Robert, L. Huré, C. Cachoncinlle, R. Viladrosa et J.-M. Pouvesle

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:2001751

Accès gratuit

Imagerie résolue en temps de plasma créé par décharge capillaire ablative pour l'amplification de rayonnement X mou p. Pr7-175

J. Pons, R. Dussart, S. Götze, D. Hong, R. Viladrosa, C. Cachoncinlle, C. Fleurier et J.-M. Pouvesle

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:2001752

Accès gratuit

Mesures de profils de densité d'espèces par radiographie rapide sur des jets gazeux et liquides p. Pr7-177

L. Huré, E. Robert, C. Cachoncinlle, R. Viladrosa et J.-M. Pouvesle

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:2001753

Accès gratuit

Métrologie autour d'installations plasma-laser. Utilisation du rayonnement synchrotron p. Pr7-179

Ph. Troussel, C. Bobin, C. Rémond, Ph. Stemmler et B. Villette

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:2001754

Accès gratuit

Développement de détecteurs en diamant CVD pour la caractérisation de sources impulsionnelles UV-X p. Pr7-183

B. Guizard, P. Bergonzo, C. Mer, A. Brambilla, D. Tromson et F. Foulon

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:2001755

Accès gratuit

Génération d'un continuum de lumière blanche pour l'analyse spectrale résolue en temps de milieux très diffusants p. Pr7-185

S. Mottin,, C. Jonin,, E. Baubeau et P. Laporte

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:2001756

Accès gratuit

Étude du rayonnement U.V. du radical SiO appliqué à des mesures d'absorption auto-accordée p. Pr7-187

F. Coursimault, O. Motret et J.-M. Pouvesle

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:2001757

Le Journal de Physique IV

Volume 11 / Numéro PR7 (Octobre 2001)

5e Colloque sur les Sources cohérentes et incohérentes UV, VUV et XApplications et développements récents

Tubes à rayons X à micropointes p. Pr7-3

Source compacte de rayons X p. Pr7-5

Production de rayons X par interaction laser femtoseconde - agrégats de gaz rare p. Pr7-7

Étude et modélisation du front d'onde des nouvelles sources XUV p. Pr7-9

Modélisation de la cohérence spatiale des lasers X-UV p. Pr7-15

Effet de la redistribution en fréquence sur les profils d'intensité de la raie à 182 Å du C5+ p. Pr7-19

Miroir simple-ou multi-couches à courbure variable pour microfocalisation de rayonnement synchrotron X p. Pr7-21

Calibration de lames de phase par interférométrie à 13 nm p. Pr7-25

Interaction laser - métal en présence de plasmons de surface : vers une source de rayonnement UV et X p. Pr7-27

Décharge capillaire compacte et ultra-brève pour la lithographie UV extrême par projection p. Pr7-29

Source de photons X mous à haute brillance par décharge microcapillaire p. Pr7-31

Formation du plasma dans une décharge capillaire rapide assistée par effet de cathode creuse p. Pr7-33

Expérience et simulation d'une décharge capillaire ablative pour la production de rayonnement UVX cohérent et incohérent p. Pr7-35

Développement d'un générateur de type Blumlein pour des sources EUV à décharges capillaires rapides p. Pr7-37

Performances obtenues sur SU5 : une ligne VUV à haute résolution et à polarisation variable p. Pr7-41

Le laser à électrons libres UV de super-ACO : source et applications p. Pr7-45

Méthode originale d'amplification régénératrice avec un laser XeCl : application à la lithographie EUV p. Pr7-47

Modélisation de l'amplification d'une impulsion laser UV nanoseconde dans un milieu à excimères p. Pr7-51

Topographie multi-échelle pour le filtrage optique multicouche large-bande p. Pr7-53

Potentialités de cristaux dopés Pr3+ pour la réalisation de sources laser à solide UV accordables p. Pr7-57

Microcavités à polymères du carbazole : vers des lasers plastiques bleus p. Pr7-61

Étude d'une nouvelle source optique UV-VUV basée sur une décharge multicanaux de forte puissance p. Pr7-63

Optimisation d'une source d'ultraviolet fonctionnant dans un réacteur de traitement d'eau de consommation p. Pr7-65

Source UVX cohérente et ultrabrève par génération d'harmoniques d'un laser intense p. Pr7-69

Source UVX par génération d'harmoniques d'ordre élevé : applications potentielles à la physique des surfaces p. Pr7-73

Utilisation d'impulsions UV femtosecondes pour l'étude de la relaxation électronique dans SiO2 p. Pr7-77

Nouvelles perspectives de diagnostics de plasmas denses par génération d'harmoniques d'ordre élevé p. Pr7-81

Les dépôts en couches minces par ablation laser en régime d'impulsions ultra-courtes : état de l'art et perspectives p. Pr7-87

Micro-usinage par impulsions laser ultra-courtes p. Pr7-93

Ablation laser femtoseconde du carbone : étude du panache plasma et dépôt de couches minces p. Pr7-95

Croissance épitaxiale de films minces de ZnO obtenus par ablation laser femtoseconde p. Pr7-97

Simulation d'étirement d'impulsions brèves p. Pr7-99

Dopage laser pour la microélectronique du futur p. Pr7-103

L'ablation des polymères par irradiation laser excimère : le processus physique et la structure du polymère p. Pr7-107

Modélisation numérique de la formation d'un plasma induit par ablation laser UV (193 nm) p. Pr7-111

Ablation laser d'oxydes : étude du transfert de l'oxygène lors de la synthèse de films minces p. Pr7-113

Ablation laser par laser UV impulsionnel : principale approche pour la synthèse controlée des nanostructures de silicium p. Pr7-119

Interaction des photons UV avec le silicium massif et nanocristallin p. Pr7-121

Étude de la désorption laser UV d'une surface de silicium p. Pr7-125

Nettoyage de surfaces de grandes dimensions par laser à excimères p. Pr7-127

Carburation d'alliage d'aluminium par traitement de surface par laser excimère p. Pr7-129

Amélioration de la tenue à la corrosion atmosphérique des matériaux utilisés en connectique. Traitements de surface par laser p. Pr7-131

Applications des plasmas produits par le laser à excimères HERCULES-L : du recuit du silicium à la lithographie par rayons X p. Pr7-133

Spectrométrie Raman de résonance picoseconde : principe et application à l'analyse structurale d'intermédiaires réactionnels en solution p. Pr7-137

Purification d'air par photocatalyse hétérogène p. Pr7-141

Contrôle et traitement des eaux et des effluents par techniques UV p. Pr7-145

Ionisations K sur l'ADN : mort cellulaire et aberrations chromosomiques p. Pr7-149

XMM-Newton : un observatoire européen pour l'astronomie X p. Pr7-155

Quelques exemples récents d'utilisation de méthodes d'examen ou d'analyse des matériaux du patrimoine culturel mettant en œuvre des rayons X p. Pr7-159

Imagerie à l'échelle atomique par holographie de fluorescence p. Pr7-165

Développement de la radiographie X éclair et de l'imagerie de fluorescence induite par X pour la caractérisation de milieux fluides p. Pr7-171

Imagerie résolue en temps de plasma créé par décharge capillaire ablative pour l'amplification de rayonnement X mou p. Pr7-175

Mesures de profils de densité d'espèces par radiographie rapide sur des jets gazeux et liquides p. Pr7-177

Métrologie autour d'installations plasma-laser. Utilisation du rayonnement synchrotron p. Pr7-179

Développement de détecteurs en diamant CVD pour la caractérisation de sources impulsionnelles UV-X p. Pr7-183

Génération d'un continuum de lumière blanche pour l'analyse spectrale résolue en temps de milieux très diffusants p. Pr7-185

Étude du rayonnement U.V. du radical SiO appliqué à des mesures d'absorption auto-accordée p. Pr7-187

5^e Colloque sur les Sources cohérentes et incohérentes UV, VUV et X
Applications et développements récents

Effet de la redistribution en fréquence sur les profils d'intensité de la raie à 182 Å du C⁵⁺ p. Pr7-19

Potentialités de cristaux dopés Pr³⁺ pour la réalisation de sources laser à solide UV accordables p. Pr7-57

Utilisation d'impulsions UV femtosecondes pour l'étude de la relaxation électronique dans SiO₂ p. Pr7-77