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J. Phys. IV France
Volume 11, Numéro PR7, Octobre 2001
5e Colloque sur les Sources cohérentes et incohérentes UV, VUV et XApplications et développements récents |
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| Page(s) | Pr7-111 - Pr7-112 | |
| DOI | https://doi.org/10.1051/jp4:2001735 | |
Applications et développements récents
J. Phys. IV France 11 (2001) Pr7-111-Pr7-112
DOI: 10.1051/jp4:2001735
Modélisation numérique de la formation d'un plasma induit par ablation laser UV (193 nm)
J.D. Parisse1, 2, D.E. Zeitoun1, W. Marine2 and M.L. Sentis21 IUSTI, UMR 6595 du CNRS, Université de Provence, Technopôle de Château Gombert, 5 rue Enrico Fermi, 13453 Marseille cedex 13, France
2 Groupe Interdisciplinaire Ablation Laser et Applications, LP3, FRE 2165, GPEC, UMR 6631, Campus de Luminy, Case 917, 13288 Marseille cedex 9, France
Résumé
Un modèle numérique permettant l'étude de l'interaction laser-matière en régime nanoseconde est développé. Le matériau considéré est du silicium et la longueur d'onde du laser dans le domaine spectrale de l'UV (193 nm). La modélisation, basée sur une approche monodimensionnelle instationnaire, se divise en deux parties. La première décrit l'interaction laser-cible, la seconde s'intéresse à l'interaction laser matière évaporée. Cette dernière est basée sur une description hydrodynamique de la matière évaporée tout en prenant en compte les processus physiques menant à la formation du plasma (absorption du rayonnement laser, ionisation du milieu . . .). Les résultats issus du modèle numérique sont confrontés aux résultats expérimentaux extraits de la littérature.
© EDP Sciences 2001