Les dépôts en couches minces par ablation laser en régime d'impulsions ultra-courtes : état de l'art et perspectives

Résumé
Le développement récent de sources femtosecondes de très fortes intensités (10¹⁴ - 10¹⁵ W/cm²) ouvre des perspectives nouvelles au procédé de dépôt en couches minces par photo-ablation, en raison notamment, du caractère athermique de l'interaction laser-matière en impulsions ultra-courtes, et de la génération de plasmas très énergétiques. Après avoir rappelé les mécanismes fondamentaux mis en jeu dans ce régime et les conséquences attendues sur les propriétés des dépôts, nous ferons un bilan des travaux réalisés dans ce domaine, qui concernent très majoritairement les films de carbone. Nous tenterons aussi de dégager les perspectives de cette technique, liées en partie au développement futur des sources femtosecondes.