Accès gratuit
| Numéro |
J. Phys. IV France
Volume 108, juin 2003
|
|
|---|---|---|
| Page(s) | 259 - 262 | |
| DOI | https://doi.org/10.1051/jp4:20030639 | |
J. Phys. IV France 108 (2003) 259
DOI: 10.1051/jp4:20030639
CAPELLA : une source de rayonnement extrême UV à 13.5 nm par décharge capillaire
O. Sarroukh, E. Robert, T. Gonthiez, A.L. Thomann, R. Viladrosa, C. Fleurier, J.M. Pouvesle and C. CachoncinlleGroupe de Recherche sur l'Énergétique des Milieux Ionisés, GREMI-ESPEO, Université d'Orléans, 14 rue d'Issoudun, BP. 6744, 45067 Orléans cedex 2, France
Résumé
Au GREMI, nous étudions le fonctionnement d'une lampe de rayonnement Extrême
Ultraviolet (EUV) émettant à 13.5 nm : CAPELLA. Cette lampe consiste en une décharge capillaire
dans un flux de xénon continu à basse pression. L'utilisation de Xénon à basse pression dans cette
décharge permet la production de photons de faible longueur d'onde dans l'EUV. Dans cet article, nous
présentons l'étude et la caractérisation de cette lampe ainsi que ses principales performances, en
particulier les résultats des analyses des débris émis par la lampe pendant quelques millions de tirs.
© EDP Sciences 2003