Apport des techniques XRFS et LEEIXS à l'étude de la formation de films de silice sur acier par PACVD

Résumé
Deux méthodes d'émission X (XRFS et LEEIXS) ont été utilisées pour caractériser des films minces organosilanés déposés par "polymérisation plasma" (procédé PACVD) sur des substrats d'acier inoxydable. Les mesures d'épaisseur ont été réalisées par XRFS et les déterminations de variation de composition ou d'effets chimiques en fonction de divers paramètres expérimentaux ont été effectuées par LEEIXS. Cette dernière méthode, très sensible à la détection des éléments légers, a permis d'optimiser les conditions d'élaboration pour obtenir des dépôts de silice pure.

Abstract
Organosilane thin films deposited by "plasma polymerization" (PACVD process) on stainless steel substrates have been investigated by two x-ray emission methods (XRFS and LEEIXS). Thickness measurement was performed by XRFS and composition or chemical effect variations were determined by LEEIXS as a function of various experimental parameters. The latter method, very sensitive to the detection of light elements, has allowed to optimize the deposition conditions and to obtain pure silica films.