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Etude par Microscopie Electronique et Mesures de Conductance Electrique In Situ de la Cristallisation de Couches a-Si Obtenues par Pyrolyse de Silane et Disilane par LPCVD dans des Conditions Ultra-Pures p. C3-291 T. Kretz, D. Pribat, P. Legagneux, F. Plais, O. Huet et M. Magis DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:1995329 RésuméPDF (1.125 MB)
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Phénomènes Diffusionnels et Recristallisation Accompagnant l'Assemblage de Superalliages Base Nickel par Compression à Chaud p. C3-311 Y. Bienvenu, F. Decla et J.C. Garcia DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:1995332 RésuméPDF (1.211 MB)
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