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J. Phys. IV France
Volume 08, Numéro PR5, October 1998
Rayons X et Matière
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| Page(s) | Pr5-287 - Pr5-293 | |
| DOI | https://doi.org/10.1051/jp4:1998536 | |
J. Phys. IV France 08 (1998) Pr5-287-Pr5-293
DOI: 10.1051/jp4:1998536
Étude par émission de rayons X de films d'oxyde de cuivre formés sur des substrats de cuivre
J. Baborowski1, B.J. Love2, M. Romand1 and M. Charbonnier11 Laboratoire de Sciences et Ingénierie des Surfaces, EA 1877, Université Claude Bernard Lyon 1, 69622 Villeurbanne cedex, France
2 Department of Material Science and Engineering, Virginia Polytechnic Institute, Blacksburg, VA 24061-0237, U.S.A.
Résumé
Le présent travail traite de l'optimisation d'un procédé chimique d'oxydation de la surface de substrats de cuivre à usage de l'industrie microélectronique (amélioration de l'adhésion à l'interface de systèmes polymère/métal). L'analyse des films d'oxyde formés est réalisée par spectrométrie d'émission X induite par excitation électronique de basse énergie (LEEIXS) et par spectrométrie photoélectronique (XPS). Les informations obtenues (composition, épaisseur des films) sont corrélées aux paramètres d'élaboration (composition et température du bain, temps de traitement, etc. ...).
Abstract
The present work has been aimed at optimizing a chemical oxidation process of copper substrates for microelectronics applications (adhesion improvement at the polymer / metal interface). Analysis of the so-formed oxide films was carried out by low-energy electron-induced x-ray spectrometry (LEEIXS) and x-ray photoelectron spectrometry (XPS). Considerable information was obtained about chemical composition and thickness of oxide films and correlated with the elaboration parameters (temperature of the oxidizing bath, treatment time ...).
© EDP Sciences 1998