Structures multicouches gravées pour le rayonnement X-UV

Résumé
L'analyse spectrale et l'imagrie du rayonnement X-UV ont depuis environ deux décennies considérablement bénéficié du développement des miroirs interférentiels multicouches à période nanométrique. La possibilité de graver ces structures multicouches à l'aide de techniques de microfabrication (lithographie électronique et X, gravure par plasma ...) a ouvert plus récemment de nouvelles perspectives dans le domaine de l'optique X-UV. Nous en présentons ici quelques exemples : les réseaux de diffraction lamellaires, les monochromateurs à bande passante étroite, les polychromateurs et enfin les lentilles dites de Bragg-Fresnel.

Abstract
In the last two decades, the development of nanometric period multilayer interferential mirrors has largely contributed to the progress of X-UV spectral analysis and imagery. The ability to pattern the multilayer structures by means of microfabrication technologies (electronic and x-ray lithography, plasma etching ..) has, more recently, opened up new possibilities in the area of X-UV optics. Some examples are presented in this paper : the lamellar diffraction gratings, the monochromators with narrow bandwidth, the polychromators and, finally, the so-called Bragg-Fresnel lenses.