J. Phys. IV France 12 (2002) Pr6-293
DOI: 10.1051/jp4:20020238

Monochromateur multicouche X-UV à bande passante étroite et faible fond continu

R. Benbalagh^{1, 2}, J.-M. André^{1, 2}, R. Barchewitz¹, M.-F. Ravet³, F. Delmotte³, F. Bridou³, G. Julié⁴, A. Bosseboeuf⁴, R. Laval⁴, C. Rémond^{2, 5}, G. Soullié^{2, 5}, P. Troussel^{2, 5} and M. Fialin<sup>6

1</sup>  Laboratoire de Chimie Physique - Matière et Rayonnement, UMR 7416 du CNRS, 11 rue Pierre et Marie Curie, 75231 Paris cedex 05, France
²  Laboratoire pour l'Utilisation du Rayonnement Électromagnétique (LURE), Université Paris-Sud, bâtiment 209D, 91405 Orsay, France
³  Groupe de Physique des Films Minces, Laboratoire Charles Fabry de l'Institut d'Optique, UMR 8501 du CNRS, Centre Scientifique, bâtiment 503, BP. 147, 91403 Orsay, France
⁴  Institut d'Électronique Fondamentale, CEETAM, UMR 8622 du CNRS, Université Paris-Sud, bâtiment 220, 91405 Orsay, France
⁵  CEA-DAM/DRIF/DCRE/SDE, BP. 12, 91680 Bruyères-le-Châtel, France
⁶  Centre de Microanalyse, CAMPARIS, Université Pierre et Marie Curie, ESA 7058 du CNRS, 4 place Jussieu, 75005 Paris, France

Abstract
The principle of a multilayer monochromator with a narrow bandwidth and a low specular background is recalled. The elaboration of such a monochromator obtained from a Mo/Si multilau-yer mirror is briefly described. The performance of the device measured at 1500 and 98 eV is presented.

Résumé
Le principe d'un monochromateur multicouche à bande passante étroite et présentant un faible fond continu est rappelé. Nous décrivons brièvement la fabrication d'un tel monochromateur obtenu à partir d'un miroir multicouche Mo/Si. Les performances de ce dispositif mesurées à 1500 et 98 eV sont présentées.

© EDP Sciences 2002