| Numéro |
J. Phys. IV France
Volume 138, December 2006
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|---|---|---|
| Page(s) | 245 - 250 | |
| DOI | https://doi.org/10.1051/jp4:2006138028 | |
| Publié en ligne | 6 janvier 2007 | |
R. Moncorgé et J.L. Doualan
J. Phys. IV France 138 (2006) 245-250
DOI: 10.1051/jp4:2006138028
Microscopie interférentielle X-UV : un outil pour l'étude des endommagements des surfaces optiques
G. Jamelot1, D. Ros1, K. Cassou1, S. Kazamias1, A. Klisnick1, M. Kozlová2, T. Mocek2, P. Homer2, J. Polan2 and M. Stupka2, 21 LIXAM, Laboratoire d'Interaction du Rayonnement X avec la Matière, UMR 8624, Bât. 350, Campus de l'Université Paris XI, 91405 Orsay Cedex, France
2 Institute of Physics, Pals Centre, Prague 8, Czech Republic
(Publié en ligne le 6 janvier 2007)
Résumé
Nous présentons des résultats récents concernant des
premières investigations de microscopie interférentielle par
laser X-UV d'endommagement optique. Le laser X-UV utilisé est un
laser collisionnel en régime quasi-stationnaire émettant
à 21.2 nm, développé au Prague Asterix Laser System
(PALS, Prague, République Tchèque). Des échantillons de
silice fondue de haute qualité, avec ou sans rayure, étaient
irradiées en face avant par un laser bleu, correspondant au
harmonique du
laser à iode du PALS (1.315 
m), servant également
à réaliser le laser X-UV à 21.2 nm. Celui-ci était
utilisé, 5 ns après l'irradiation pour réaliser une
imagerie microscopique et interférentielle de la face
arrière de l'échantillon. Les résultats font
apparaître des déformations locales transitoires. Des
premières analyses mettent en évidence une probable
variation de la rugosité de la surface. Cette démonstration
expérimentale encourageante ouvre la voie à de futures
investigations, notamment sur notre prochaine installation laser :
LASERIX.
© EDP Sciences 2006