Mécanismes d'éjection de particules par laser impulsionnel

Résumé
L'enlèvement de particules de dimensions nanométriques est l'un des principaux challenges à relever pour atteindre les futurs objectifs de l'industrie microélectronique. Les procédés laser présentent, dans certains cas, des performances très intéressantes, mais les mécanismes d'éjection des particules polluant la surface restent cependant fort mal connus. L'étude de la dynamique d'éjection des particules, par une technique optique, a mis en évidence l'existence de deux mécanismes dont l'importance relative dépend de la fluence d'irradiation. A forte fluence l'ablation locale du substrat sous la particule prédomine, alors que pour les fluences plus faibles le mécanisme semble être lié à l'enlèvement de l'humidité résiduelle à l'interface particule - substrat. Contrairement aux modèles précédemment proposés, la contribution de la force d'inertie s'exerçant sur la particule lors de l'expansion thermique rapide des matériaux est négligeable.