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Journal de Physique IV (Proceedings)
Volume 127 (June 2005)
Saint-Etienne, France, 7-11 juin 2004Y. Ouerdane et P. Laporte
ISBN : 2-86883-846-4
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Lasers X de deuxième génération p. 9
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Quelle source pour la lithographie dans l'EUV ? p. 25
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Lasers collisionnels à 41.8 nm en régime guidé p. 33
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Optiques multicouches pour l'extrême UV p. 69
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Spectres d'absorption X dans les plasmas femtosecondes p. 125
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Enlèvement de particules par laser impulsionnel p. 145
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