Linear field applicators

Abstract
The paper concerns microwave field applicators suitable for sustaining plasma columns that are long with respect to the free space wavelength. There are two main categories of such discharges [1]. We consider only the case of transmission - line type applicators in which plasma is an integral part of the waveguiding structure and thus strongly affects the wave propagation characteristics. The main point in this paper, is the possibility of achieving axially uniform plasma columns. For this purpose, we focus on discharges sustained within longitudinally nonuniform waveguiding structures as well as discharges sustained in a standing wave field. In each case, we briefly approach the problems of their modeling, conditions of existence and their axial structure.

Résumé
Nous nous intéressons aux applicateurs de champs micro-ondes de configuration linéaire et permettant d'entretenir des colonnes de plasmas qui soient beaucoup plus longues que la longueur d'onde dans le vide du rayonnement micro-ondes utilisé. De telles décharges peuvent être classées en deux catégories. Nous allons considérer seulement celles où les applicateurs de champ sont de type lignes de transmission : le plasma fait partie intégrante de la structure de propagation et il influence fortement les caractéristiques de l'onde s'y propageant. L'article est consacré aux conditions nécessaires à l'obtention d'une colonne de plasma qui soit uniforme le long de l'axe de l'applicateur linéaire. Pour y arriver, nous examinons de telles décharges entretenues à l'intérieur de structures de guidage d'ondes qui ne sont pas uniformes axialement ainsi que des décharges produites par des ondes en régime stationnaire. Dans chacun de ces deux cas, nous abordons de façon succincte le problème de la modélisation des décharges, de leurs conditions d'existence et celui de leur structure axiale.