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J. Phys. IV France
Volume 08, Numéro PR7, October 1998
3rd International Workshop Microwave Discharges : Fundamentals and Applications
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Page(s) | Pr7-1 - Pr7-17 | |
DOI | https://doi.org/10.1051/jp4:1998701 |
J. Phys. IV France 08 (1998) Pr7-1-Pr7-17
DOI: 10.1051/jp4:1998701
Recent trends and developments of microwave discharges
J. Marec and P. LeprinceLaboratoire de Physique des Gaz et des Plasmas Associé au CNRS, Université Paris-Sud, BP. 212, 91405 Orsay cedex, France
Abstract
This paper is specially focused on large area microwave plasma. It briefly reviews recent results in the field, say since 1994, some of them are presented in this book, therefore only their basic principle are analysed. The discharges are classified according to operating principle, say, large diameter plasma, radiating structures and based on evanescent waves structures. Basic properties and operating conditions are described. Most of these structures have been designed as plasma reactors dedicated to plasma material processing. Some of their performances will be given. As conclusions, we note that a threshold power is required to fill the plasma chamber and regarding the plasma homogeneity the particular interest of high azimuthal modes.
Résumé
Ce papier est une rapide revue des plasmas microondes de grande surface dont nous présentons les récententes avancées depuis 1994. Certains dispositifs faisant l'objet d'un article de ce livre, nous nous contentons, dans ce cas, d'en présenter sommairement le principe. Nous avons classé les décharges en trois catégories selon leur principe de fonctionnement, à savoir : plasma de grand diamètre, structures rayonnantes et structures utilisant les ondes évanescentes. Nous décrivons leurs propriétés et leurs conditions de fonctionnement. Nous présentons quelques performances de ces structures en termes de réacteurs de traitement des matériaux assisté par plasma. Nous concluons sur le seuil de puissance requis pour remplir la chambre et l'intérêt des modes azimutaux élevés au regard de l'homogénéité du plasma.
© EDP Sciences 1998