Issue
J. Phys. IV France
Volume 118, November 2004
Page(s) 137 - 142
DOI https://doi.org/10.1051/jp4:2004118016


J. Phys. IV France 118 (2004) 137-142

DOI: 10.1051/jp4:2004118016

Analyse de l'intensité de fluorescence émise par une multicouche périodique sous rayonnement synchrotron. Application à l'étude de la répartition spatiale des éléments dans l'empilement

F. Bridou1, G. Cauchon2 et M. Idir3

1  Laboratoire Charles Fabry de l'Institut d'Optique(LCFIO), Bât. 503,Centre Scientifique, 91403 Orsay Cedex, France
2  Laboratoire pour l'Utilisation du Rayonnement Electromagnétique (LURE), Bât. 209D, Centre Scientifique, 91403 Orsay Cedex, France
3  Synchrotron SOLEIL, L'Orme des Merisiers, Saint-Aubin-BP. 48, 91192 Gif-sur-Yvette Cedex


Abstract
L'analyse de l'intensité du rayonnement de fluorescence des multicouches périodiques en fonction des angles d'incidence ou d'émission, peut constituer une méthode de caractérisation non destructive capable de déterminer le profil de concentration en profondeur d'un élément donné, notamment au niveau des interfaces où ce profil influe considérablement sur les performances optiques dans le domaine X-UV. Le principe de la méthode consiste à exciter la fluorescence d'un des deux matériaux de l'empilement par une radiation d'énergie supérieure à celle du seuil d'absorption de l'élément considéré. Celui-ci va émettre son propre rayonnement à l'intérieur de la multicouche. La répartition d'intensité est modulée selon la distribution géométrique des sources de rayonnement (donc de l'élément excité) à l'intérieur de l'empilement. On présente ici les résultats qui ont pu êtres obtenus à partir du rayonnement d'une source synchrotron (SB3_LURE) pour étudier une multicouche Mo/Si de 50 périodes. On a pu ainsi exciter d'une part la fluorescence du silicium, puis celle du molybdène, et montrer que les informations obtenues sur la répartition des éléments dans la multicouche étaient complémentaires.



© EDP Sciences 2004