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| Numéro |
J. Phys. IV France
Volume 11, Numéro PR7, Octobre 2001
5e Colloque sur les Sources cohérentes et incohérentes UV, VUV et XApplications et développements récents |
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|---|---|---|
| Page(s) | Pr7-63 - Pr7-64 | |
| DOI | https://doi.org/10.1051/jp4:2001722 | |
5e Colloque sur les Sources cohérentes et incohérentes UV, VUV et X
Applications et développements récents
J. Phys. IV France 11 (2001) Pr7-63-Pr7-64
DOI: 10.1051/jp4:2001722
1 Laboratoire Lasers, Plasmas et Procédés Photoniques (LP3), FRE 2165 du CNRS, Université d'Aix Marseille II, Campus de Luminy, Case 917, 13288 Marseille cedex 9, France
2 Laboratoire des Processus Photochimiques, Institut de Physique P.N. Lebedev, Leninsky Prospekt 53, 117924 Moscou, Russie
© EDP Sciences 2001
Applications et développements récents
J. Phys. IV France 11 (2001) Pr7-63-Pr7-64
DOI: 10.1051/jp4:2001722
Étude d'une nouvelle source optique UV-VUV basée sur une décharge multicanaux de forte puissance
V.I. Tcheremiskine1, 2, M.L. Sentis1, L.D. Mikheev2 and M. Sabonnadière1 Laboratoire Lasers, Plasmas et Procédés Photoniques (LP3), FRE 2165 du CNRS, Université d'Aix Marseille II, Campus de Luminy, Case 917, 13288 Marseille cedex 9, France
2 Laboratoire des Processus Photochimiques, Institut de Physique P.N. Lebedev, Leninsky Prospekt 53, 117924 Moscou, Russie
Résumé
Une nouvelle source plasma VUV de grande dimension (20 x 50 cm2) et de forte température de brillance (T > 30 000 K) dans le domaine du VUV est présentée. Cette source constitue le moyen de pompage d'un amplificateur pour laser femtoseconde dans le domaine du visible.
© EDP Sciences 2001