Analyse microstructurale de couches minces de Ti-B-N élaborées par pulvérisation cathodique magnétron

Résumé
La diffraction des rayons X est utilisée afin d'étudier l'évolution microstructurale des dépôts Ti-B-N élaborés par pulvérisation cathodique magnétron réactive. Plus précisément, l'influence sur la microstructure des paramètres de bias, tels que le potentiel de bias et la densité de courant ionique, est étudiée. Les microdéformations et les contraintes internes augmentent en fonction de la puissance de bias. La taille de grains est influencée par la quantité d'ions qui bombardent la couche en croissance mais aussi par leur énergie. Un maximum local de contraintes est observé pour le dépôt le plus dur, correspondant au dépôt le plus dense. La relaxation des contraintes est alors faible.

Abstract
X-Ray diffraction is used to study microstructural evolution of Ti-B-N coatings elaborated by reactive magnetron cathodic sputtering. Influence of bias parameters, such as bias potential and ionic current density on microstructure, is precisely studied. Microstrains and macrostresses increase with bias power. Crystallite size is influenced by the number of ions which bombard the growing coating but also by their energy. A local maximum stress is obtained for the hardest coating. It corresponds to the denser film. Therefore, the stress relaxation is weak.