Etching of thin films using magnetised plasmas

Abstract
This presentation overviews a few characteristics of high frequency magnetoplasma sources that have been designed for applications to etching of thin films. The present needs in terms of etching performances are presented as well as a brief description of some of these plasma sources. A few etching process that have been succeeding with these sources are presented. From these results, we conclude that all these sources have their figure of merit and that all of them can be designed so as to provide similar etching characteristics.

Résumé
Dans cette présentation sont résumées quelques caractéristiques des sources de magnétoplasmas de haute fréquence qui ont été conçues pour des applications en gravure de couches minces. On examine les contraintes actuelles en termes de performances de gravure et on donne une brève description de ces sources de plasma. Quelques procédés ayant rencontré un certain succès sont aussi exposés. A partir de ces résultats, on peut conclure que toutes ces sources ont lews avantages et qu'elles peuvent toujours être adaptées afin de conduire à des résultats de gravure similaires.