Miroirs interférentiels X et X-UV. Un cas particulier de multicouches métalliques à faibles périodes

Résumé
Depuis les années 70 on sait préparer des miroirs interférentiels X et X-UV, analogues dans leur principe aux multicouches diélectriques employées dans le domaine visible. Pour cela, à partir de deux matériaux choisis, on doit déposer de façon reproductible et périodique un grand nombre de bicouches. Les interfaces doivent être abruptes et les épaisseurs de matériaux de quelques couches atomiques. Comme pour les autres types de multicouches, les principales méthodes de dépôt ont été essayées ; celles par bombardement ionique apparaissent comme les mieux adaptées pour la préparation de ce type de structures. Peu de méthodes de contrôle in situ existent, bien qu'il reste souhaitable de déposer les couches en vérifiant continûment leurs caractéristiques. Pour ces miroirs, les principales méthodes de caractérisations sont basées sur la diffraction X, si possible à la longueur d'onde et à l'angle d'incidence envisagés pour l'utilisation. La qualité des interfaces est déterminante pour les performances de réflectivité.