Propriétés des couches de ZrO2 et de HfO2 obtenues par évaporation thermique réactive

F. TCHELIEBOU; A. BOYER; J.P. CHERON

doi:doi:10.1051/jp4:19937156

Numéro		J. Phys. IV France Volume 03, Numéro C7, Novembre 1993 The 3rd European Conference on Advanced Materials and Processes Troisiéme Conférence Européenne sur les Matériaux et les Procédés Avancés


Page(s)		C7-1003 - C7-1006
DOI		https://doi.org/10.1051/jp4:19937156

The 3rd European Conference on Advanced Materials and Processes
Troisiéme Conférence Européenne sur les Matériaux et les Procédés Avancés

J. Phys. IV France 03 (1993) C7-1003-C7-1006
DOI: 10.1051/jp4:19937156

Propriétés des couches de ZrO₂ et de HfO₂ obtenues par évaporation thermique réactive

F. TCHELIEBOU, A. BOYER and J.P. CHERON

Centre d'Electronique de Montpellier; Laboratoire associé au CNRS, URA 391, Université Montpellier II, Sciences et Techniques du Languedoc, Place Eugène Bataillon, 34095 Montpellier cedex 5, France

Abstract
Zirconia (ZrO₂) and hafnia (HfO₂) were obtained by reactive thermal evaporation with a high deposition rate. Films physical properties were investigated. The layers were deposited onto nickel and also onto NiCoCrAlY- nickel substrates. It was found that this plug layer enhances both oxide adherence and its dielectrical properties, yelding interesting electrical insulation. Elsewhere, X-rays patterns displayed polycrystalline structure. These ceramics were applied in thermal sensors and could be used as corrosion-resistant layers or coating materials.