Journal de Physique IV

Low-temperature conduction mechanisms of 3-nm-thick post-soft breakdown SiO2 films

K. Komiya, Y. Omura, T. Oka et M. Nagahara

J. Phys. IV France, 12 3 (2002) 103-106

DOI: 10.1051/jp420020045

K. Komiya

Y. Omura

T. Oka

M. Nagahara

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