Journal de Physique IV

Authentification abonné

Mon compte EDPS

Stability and formation kinetics of TiN and silicides in the Ti/Si₃N₄ diffusion couple

M. PAULASTO, F.J.J. VAN LOO et J.K. KIVILAHTI

J. Phys. IV France, 03 C7 (1993) C7-1069-C7-1072

DOI: 10.1051/jp4:19937167

Rechercher les articles dans Google Scholar correspondant aux auteurs sélectionnés:

Sélectionnez les auteurs :

M. PAULASTO

F.J.J. VAN LOO

J.K. KIVILAHTI

Méthode de recherche :

articles ayant parmi leurs auteurs TOUS les auteurs sélectionnés (ET)

articles ayant parmi leurs auteurs AU MOINS un auteur identique à ceux sélectionnés (OU)