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Article cité :

Atmospheric pressure chemical vapour deposition of tin sulfide thin films

I.P. Parkin, L.S. Price, A.M.E. Hardy, R.J.H. Clark, T.G. Hibbert, K.C. Molloy

J. Phys. IV France, 09 PR8 (1999) Pr8-403-Pr8-410

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:1999850

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Citations de cet article :

Controlling the morphology while retaining the unique SnS stoichiometry of bulk tin sulfide produced by the rapid method of heating Sn foil in sulfur vapor by vapor phase reaction using two-furnace chemical vapor deposition system

Pola Shriber, Efrat Shawat Avraham, Bibhudatta Malik, et al.
Chemical Papers 77 (3) 1273 (2023)
https://doi.org/10.1007/s11696-022-02550-0

Deposition of SnS Thin Films from Sn(II) Thioamidate Precursors

Amanda L. Catherall, Shasa Harris, Michael S. Hill, Andrew L. Johnson and Mary F. Mahon
Crystal Growth & Design 17 (10) 5544 (2017)
https://doi.org/10.1021/acs.cgd.7b01100