Stability and formation kinetics of TiN and silicides in the Ti/Si3N4 diffusion couple
J. Phys. IV France, 03 C7 (1993) C7-1069-C7-1072
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Influence of Si Atoms Insertion on the Formation of the Ti-Si-N Composite by DFT Simulation
Juan Manuel Gonzalez, Johans Steeven Restrepo, Carolina Ortega Portilla, Alexander Ruden Muñoz and Federico Sequeda OsorioIngeniería y Ciencia 12 (23) 11 (2016)
https://doi.org/10.17230/ingciencia.12.23.1