Numéro
J. Phys. IV France
Volume 118, November 2004
Page(s) 183 - 191
DOI https://doi.org/10.1051/jp4:2004118022


J. Phys. IV France 118 (2004) 183-191

DOI: 10.1051/jp4:2004118022

Étude de la microstructure de couches minces par diffraction des rayons X : description analytique des profils de raie

A. Boulle, R. Guinebretière et A. Dauger

Science des Procédés Céramiques et de Traitements de Surface CNRS UMR 6638 ENSCI, 47-73 avenue Albert Thomas 87065 Limoges Cedex, France


Abstract
Nous proposons un modèle cinématique permettant de décrire de façon analytique les profils de raie de diffraction des rayons X de couches minces épitaxiées. Comparé aux modèles analytiques existant, celui-ci permet de prendre en compte plusieurs types de défauts simultanément, notamment la rugosité du substrat, celle de la surface de la couche, et les fluctuations aléatoires (cumulatives ou non) de distance interréticulaire. Cette description peut s'appliquer aux cas de couches minces nanométriques (de quelques dizaines de nanomètres à quelques centaines de nanomètres) ainsi qu'aux couches ultra-minces (quelques Ångstroms). Les profils de raie sont affectés différemment selon la nature des défauts présents, ce qui permet d'envisager l'application de ce modèle pour la détermination quantitative des propriétés microstructurales des couches de façon simple et routinière.



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