J. Phys. IV France 108 (2003) 255
DOI: 10.1051/jp4:20030638

Dépôt et calibration de multicouches pour l'optique XUV dans la gamme 10-30 nm

F. Delmotte¹, M.F. Ravet¹, F. Bridou¹, X. Song¹, A. Jerome¹, S. Boujdayane¹, S. Hubert², Ph. Zeitoun², M. Idir² and P. Troussel<sup>3

1</sup>  Laboratoire Charles Fabry de l'Institut d'Optique, UMR 8501 du CNRS, bâtiment 503, Centre Scientifique d'Orsay, 91403 Orsay cedex, France
²  Laboratoire d'Interaction du Rayonnement X avec la Matière, LOA-ENSTA, Chemin de la Hunière, 91761 Palaiseau cedex, France
³  CEA-DAM/DRIF/DCRE/SDE, BP. 12, 91680 Bruyères-le-Châtel, France

Résumé
Nous présentons dans une première partie une étude de miroirs interférentiels multicouches composés de divers matériaux pour des longueurs d'onde de l'ordre de 30 nm. Les quatre systèmes étudiés, Mo/Si recouvert de Si ou de B ₄C, B ₄C/Si et Mo/B ₄C/Si/B ₄C, présentent des pouvoirs réflecteurs de l'ordre de 24% autour de 30 nm. Les multicouches B ₄C/Si et Mo/B ₄C/Si/B ₄C présentent une meilleure sélectivité que les multicouches Mo/Si. Sur ces dernières, la couche de protection en B ₄C ne permet pas d'améliorer la stabilité en température, par contre l'ajout de B ₄C aux interfaces améliore considérablement cette stabilité. Dans une seconde partie, nous présentons la réalisation et la calibration de lames séparatrices à 13,9 nm pour un interféromètre de Michelson. Les lames séparatrices que nous avons développées présentent des propriétés symétriques : les réflectivités de chaque face ne different que de 6%. Le produit réflectivité-transmission de ces lames peut être optimisé au-dessus de 2% pour une longueur d'onde fixée dans la gamme 12,6-15,5 nm.

© EDP Sciences 2003