Numéro
J. Phys. IV France
Volume 106, mars 2003
Page(s) 53 - 62
DOI https://doi.org/10.1051/jp4:20030215


J. Phys. IV France
106 (2003) 53
DOI: 10.1051/jp4:20030215

La transition fragile-ductile de 4H-SiC monocristallin

J.L. Démenet1, M. Zhang2, H.M. Hobgood3 and P. Pirouz2

1  Laboratoire de Métallurgie Physique, UMR 6630 du CNRS, Université de Poitiers, SP2MI, 86962 Chasseneuil-Futuroscope cedex, France
2  Department of Materials Science and Engineering, Case Western Reserve University, Cleveland, OH 44106-7204, U.S.A.
3  Cree Inc., 4600 Silicon Drive, Durham, NC 27703, U.S.A.

Résumé
La transition fragile-ductile du polytype 4H du carbure de silicium a été étudiée entre 750 $^{\circ}$C et 1300 $^{\circ}$C en utilisant deux techniques : la déformation par compression à vitesse imposée et la flexion 4 points. La courbe représentant les variations de la contrainte d'écoulement en fonction de la température présente une cassure à une température T $_{\rm c}$, associée à un changement de mécanisme de déformation, comme le confirment les observations par Microscopie Electronique en Transmission. Par ailleurs, les essais de flexion ont permis de déterminer la température de transition fragile-ductile T $_{\rm BDT}$ en fonction de la vitesse de déformation. La comparaison des deux types d'essais montre que T $_{\rm c}$ est assimilable à T $_{\rm BDT}$.



© EDP Sciences 2003