Numéro |
J. Phys. IV France
Volume 106, mars 2003
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Page(s) | 53 - 62 | |
DOI | https://doi.org/10.1051/jp4:20030215 |
J. Phys. IV France 106 (2003) 53
DOI: 10.1051/jp4:20030215
La transition fragile-ductile de 4H-SiC monocristallin
J.L. Démenet1, M. Zhang2, H.M. Hobgood3 and P. Pirouz21 Laboratoire de Métallurgie Physique, UMR 6630 du CNRS, Université de Poitiers, SP2MI, 86962 Chasseneuil-Futuroscope cedex, France
2 Department of Materials Science and Engineering, Case Western Reserve University, Cleveland, OH 44106-7204, U.S.A.
3 Cree Inc., 4600 Silicon Drive, Durham, NC 27703, U.S.A.
Résumé
La transition fragile-ductile du polytype 4H du carbure de silicium a été étudiée entre 750
C et 1300
C en
utilisant deux techniques : la déformation par compression à vitesse imposée et la flexion 4 points. La courbe
représentant les variations de la contrainte d'écoulement en fonction de la température présente une cassure à une
température T
, associée à un changement de mécanisme de déformation, comme le confirment les observations par
Microscopie Electronique en Transmission. Par ailleurs, les essais de flexion ont permis de déterminer la
température de transition fragile-ductile T
en fonction de la vitesse de déformation. La comparaison des deux
types d'essais montre que T
est assimilable à T
.
© EDP Sciences 2003