| Numéro |
J. Phys. IV France
Volume 10, Numéro PR4, March 2000
42e Colloque de Métallurgie de l'INSTNMatériaux pour les machines thermiques |
|
|---|---|---|
| Page(s) | Pr4-99 - Pr4-111 | |
| DOI | https://doi.org/10.1051/jp4:2000413 | |
42e Colloque de Métallurgie de l'INSTN
Matériaux pour les machines thermiques
J. Phys. IV France 10 (2000) Pr4-99-Pr4-111
DOI: 10.1051/jp4:2000413
CEMEF, UMR 7635, École des Mines de Paris, BP. 207, 06904 Sophia Antipolis, France
© EDP Sciences 2000
Matériaux pour les machines thermiques
J. Phys. IV France 10 (2000) Pr4-99-Pr4-111
DOI: 10.1051/jp4:2000413
Mécanisme de croissance des films anodiques compacts et poreux. État de l'art et application au titane et au TA6V
E. Darque-Ceretti and V. Grand-ClémentCEMEF, UMR 7635, École des Mines de Paris, BP. 207, 06904 Sophia Antipolis, France
Résumé
Après un rappel de l'état de l'art sur l'anodisation, nous présenterons un scénario de croissance de couches obtenues
sur titane et TA6V dans un bain d'acide chromique et dans un bain d'acide chromique avec ajout d'acide fluorhydrique. Nous nous appuierons sur des résultats obtenus en chronoampérométrie et par l'analyse physico-chimique et morphologique de ces
couches. Nous démontrerons que la première étape est commune quel que soit le bain .
© EDP Sciences 2000