Analyse de dépôts PVD de tantale par diffraction X

Résumé
Cette étude porte sur la détermination des contraintes résiduelles dans des films minces de tantale déposés par un procédé PVD (bombardement électronique et condensation sous vide) sur un substrat en acier. Les échantillons ont subi des recuits conventionnels (de 600 à 1100 °C) pour activer la diffusion du carbone, et former des carbures de tantale dans le dépôt. Ceci a pour effet, d'améliorer les propriétés mécaniques du revêtement. L'une de ces propriétés est caractérisée par le niveau de contraintes résiduelles. Pour les échantillons étudiés, ce sont des contraintes de compressionet leur valeur passe de 500 MPa, pour un échantillon non recuit, à 1500 MPa pour un échantillon recuit à 1100 °C durant une heure.

Abstract
The aim of this study is to determine residual stresses in Ta thin PVD deposits on steel. The samples are then annealed between 600 and 1100°C producing Ta carbides in the layer. These carbides increase the mechanical properties of the surface. They increase the compressive residual stresses in the Ta layer. Compressive stresses about 500 MPa are measured without annealing and about 1500 MPa for a sample annealed 1 hour at 1100°C.