| Numéro |
J. Phys. IV France
Volume 04, Numéro C7, Juillet 1994
8th International Topical Meeting on Photoacoustic and Photothermal Phenomena8 ITMP3 / 8éme conférence internationale de photoacoustique et photothermique |
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| Page(s) | C7-121 - C7-124 | |
| DOI | https://doi.org/10.1051/jp4:1994729 | |
8th International Topical Meeting on Photoacoustic and Photothermal Phenomena
8 ITMP3 / 8éme conférence internationale de photoacoustique et photothermique
J. Phys. IV France 04 (1994) C7-121-C7-124
DOI: 10.1051/jp4:1994729
1 Laboratoire d'Optique des Couches Minces, Unité de Recherche Physique, Université d'Oran es-Sénia, Oran, Algérie
2 Laboratoire d'Optique des Solides, URA 781 du CNRS, Université Pierre et Marie Curie, Case 80, 4 place Jussieu, 75252 Paris cedex 05, France
© EDP Sciences 1994
8 ITMP3 / 8éme conférence internationale de photoacoustique et photothermique
J. Phys. IV France 04 (1994) C7-121-C7-124
DOI: 10.1051/jp4:1994729
Characterization of inhomogeneous weakly absorbing thin films by photothermal deflection spectroscopy, applications to hydrogenated amorphous silicon films
L. Chahed1, J.M. Frigerio2, F. Jérémie2 and M.L. Thèye21 Laboratoire d'Optique des Couches Minces, Unité de Recherche Physique, Université d'Oran es-Sénia, Oran, Algérie
2 Laboratoire d'Optique des Solides, URA 781 du CNRS, Université Pierre et Marie Curie, Case 80, 4 place Jussieu, 75252 Paris cedex 05, France
Abstract
We explore the possibilities offered by transverse photothermal deflection spectroscopy at low modulation frequencies for studying variations of the optical absorption coefficient of hydrogenated amorphous silicon thin films across their thickness, with a special emphasis on the low energy range.
© EDP Sciences 1994