Développement d'une source plasma-laser pour la lithographie dans l'extrême ultraviolet G. Soullié, C. Lafon, R. Rosch, D. Babonneau, F. Garaude, S. Huelvan, T. Trublet, L. Bonnet and R. Marmoret J. Phys. IV France, 108 (2003) 275-279 DOI: 10.1051/jp4:20030643