Source par décharge capillaire pour la lithographie EUV C. Cachoncinlle, E. Robert, O. Sarroukh, T. Gonthiez, R. Viladrosa, C. Fleurier and J.M. Pouvesle J. Phys. IV France, 108 (2003) 169-172 DOI: 10.1051/jp4:20030620
