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Issue
J. Phys. IV France
Volume 122, December 2004
Page(s) 87 - 92
DOI https://doi.org/10.1051/jp4:2004122013


J. Phys. IV France 122 (2004) 87-92

DOI: 10.1051/jp4:2004122013

Caractérisation par ellipsométrie spectroscopique de films minces de tellurure de bismuth obtenus par voie électrochimique

A. Zimmer1, N. Stein1, C. Boulanger1 and L. Johann2

1  Laboratoire d'Électrochimie des Matériaux UMR CNRS 7555, Université de Metz, 1 Boulevard Arago, CP 87811, 57078 Metz Cedex 3, France
2  Laboratoire de Physique des Liquides et des Interfaces, Université de Metz, 1 Boulevard Arago, CP 87811, 57078 Metz Cedex 3, France


Résumé
Des films de tellurure de bismuth (Bi2Te3) d'épaisseur proche de 1 mm ont été développés par voie électrochimique. Leurs indices optiques ont été déterminés par ellipsométrie spectroscopique (SE). Le domaine spectral des indices optiques s'étend de 400 nm à 1300 nm. L'ellipsométrie spectroscopique à angle d'incidence variable (VASE) a été utilisée pour corréler les données SE. Cette partie a été complétée par des analyses par microscopie à force atomique (AFM) qui ont permis de déterminer la rugosité des films. A partir de ces résultats et en associant l'absorption fondamentale des films de Bi2Te3 à une transition indirecte, l'énergie de bande interdite a été évaluée à 0,3 eV. Par ailleurs des mesures associant ellipsométrie spectroscopique à temps réel et électrochimie ont pu être réalisées. Ainsi les premiers instants de croissance ont été observés.



© EDP Sciences 2004