Issue
J. Phys. IV France
Volume 118, November 2004
Page(s) 369 - 375
DOI https://doi.org/10.1051/jp4:2004118043


J. Phys. IV France 118 (2004) 369-375

DOI: 10.1051/jp4:2004118043

Application de la diffraction des rayons X in situ à haute température pour l'identification d'une nouvelle phase lors de l'oxydation à 900$^{\circ}$C de l'acier 304

F. Riffard, H. Buscail, E. Caudron, R. Cueff, C. Issartel, S. El Messki et S. Perrier

LVEEM, Laboratoire Vellave sur l'Élaboration et l'Étude des Matériaux, IUT-Chimie, 8 rue J.B. Fabre, BP. 219, 43006 Le Puy-en-Velay Cedex, France


Abstract
Une nouvelle interprétation du comportement atypique couramment appelé "breakaway" observé lors de l'oxydation à haute température d'alliages chromino-formeurs est proposée grâce à l'utilisation de la diffraction des rayons X in situ à haute température. L'acier chromino-formeur AISI 304 doit établir une couche d'oxyde superficielle généralement dense et majoritairement, constituée de chromine, dont la vitesse de croissance est lente, afin d'assurer sa protection contre la corrosion à haute température. Cette faible vitesse de croissance de la couche d'oxyde est effectivement observée à 1000$^{\circ}$C. Elle serait favorisée par l'établissement d'une couche de chromine induite par la présence d'une sous-couche continue de silice à l'interface interne. Cette dernière limiterait la diffusion du fer. Le phénomène du "breakaway" est observé à la température de 900$^{\circ}$C après 40 heures d'oxydation. Ce phénomène serait lié à la croissance initiale d'oxydes contenant du fer. L'oxyde Fe7SiO10, a été identifiépour la première fois grâce à la technique de diffraction des rayons X in situ à haute température. Cet oxyde semble piéger le silicium dans la couche d'oxyde, empêchant son accumulation à l'interface interne et la formation d'une couche continue de silice.



© EDP Sciences 2004