Ordered mesoporous silica and alumina thin films studied by X-ray scattering

Abstract
The use of X-ray techniques for the characterisation of ordered mesoporous films is demonstrated. Both silica and alumina thin layers with an ordered mesoporosity are studied using low-angle diffraction and grazing incidence reflectometry. It is shown how the internal structure evolves upon drying and how texture can be easily detected using a two-circle diffractometer. The reflectometry data are correlated with results from nitrogen adsorption/desorption experiments.

Résumé
Nous montrons comment les techniques de rayons-X peuvent être utilisées pour la caractérisation des couches à mésoporosité ordonnée. Des couches minces de silice et d'alumine à mésoporosité ordonnée ont été étudiées par diffraction aux petits angles et réflectométrie en incidence rasante. Il est montré comment la structure interne évolue au cours du séchage et comment la texture peut être analysée en utilisant un diffractomètre deux-cercles. Les données de réflectométrie sont corrélées avec les résultats obtenus par des mesures d'adsorption-désorption d'azote.