Issue
J. Phys. IV France
Volume 10, Number PR4, March 2000
42e Colloque de Métallurgie de l'INSTN
Matériaux pour les machines thermiques
Page(s) Pr4-247 - Pr4-252
DOI https://doi.org/10.1051/jp4:2000434
42e Colloque de Métallurgie de l'INSTN
Matériaux pour les machines thermiques

J. Phys. IV France 10 (2000) Pr4-247-Pr4-252

DOI: 10.1051/jp4:2000434

Mobilité atomique dans les composés intermétalliques TiAl, Ni3Al et Ti2AlNb

G. Sattonnay1, C. Dimitrov2, S. Lokmane2 and O. Dimitrov2

1  CEA Saclay, DSM/DRECAM/SCM, bâtiment 546, 91191 Gif-sur-Yvette cedex, France
2  Centre d'Études de Chimie Métallurgique, CNRS, 15 rue Georges Urbain, 94407 Vitry-sur-Seine cedex, France


Résumé
Les composés intermétalliques ont des potentialités importantes comme matériaux de structure aux hautes températures. Un certain nombre de leurs caractéristiques (stabilité structurale, résistance au fluage) sont gouvernées par un transport de matière. Afin de prévoir l'évolution à long terme de ces matériaux, il est donc important de caractériser leur mobilité atomique et les coefficients de diffusion. Des résultats concernant les composés intermétalliques TiAl, Ni3Al et Ti2AlNb, qui sont les plus prometteurs pour de futures applications, sont présentés ici.



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