Étude de la croissance de l'interface Ni/MgO(001) par diffraction de rayons X en incidence rasante

A. Barbier; G. Renaud; O. Robach

doi:doi:10.1051/jp4:1998427

Issue		J. Phys. IV France Volume 08, Number PR4, June 1998 40^e Colloque de Métallurgie de l'INSTN Comportement mécanique et effets d'échelle


Page(s)		Pr4-221 - Pr4-226
DOI		https://doi.org/10.1051/jp4:1998427

40^e Colloque de Métallurgie de l'INSTN
Comportement mécanique et effets d'échelle

J. Phys. IV France 08 (1998) Pr4-221-Pr4-226
DOI: 10.1051/jp4:1998427

Étude de la croissance de l'interface Ni/MgO(001) par diffraction de rayons X en incidence rasante

A. Barbier, G. Renaud and O. Robach

Département de Recherche Fondamentale sur la Matière Condensée, SP2M/IRS, CEA/Grenoble, 17 rue des Martyrs, 38054 Grenoble cedex, France

Résumé
Nous avons appliqué la technique de diffraction de surface des rayons X à l'étude de la croissance de l'interface Ni/MgO(001). A partir de mesures effectuées dans le plan de diffraction nous montrons que l'interface est abrupte et que deux réseaux coexistent. En plus d'une partie en épitaxie cube sur cube (CC) dilatée, une fraction du Ni est orientée (110). L'orientation de la partie (110) par rapport au MgO(001) sous-jacent ainsi que la dilatation du réseau (001) évoluent en fonction de l'épaisseur. Ces deux aspects structuraux semblent donc intimement liés. Dans les stades initiaux le Ni s'épitaxie sur les sites du MgO. Lorsque l'épaisseur augmente les différentes orientations de type (110) apparaissent, chacune dans une gamme d'épaisseur bien définie.