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J. Phys. IV France
Volume 06, Number C4, Juillet 1996
Rayons X et Matiére100 ans déjà ... |
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Page(s) | C4-461 - C4-465 | |
DOI | https://doi.org/10.1051/jp4:1996442 |
100 ans déjà ...
J. Phys. IV France 06 (1996) C4-461-C4-465
DOI: 10.1051/jp4:1996442
L'étude par diffraction de rayons X des couches dures de carbonitrure de tungstène et de titanium produites par ablation laser réactive
N. Chitica1, A. Lita1, G. Marin1, I.N. Mihailescu1, M. Popescu2, C. Grivas3 and A. Hatziapostolou31 Département de Lasers, Institut de Physique Atomique, BP. MG 6, 76900 Bucarest, Roumanie
2 Institut de Physique et Technologie des Matériaux, BP. MG 7, 76900 Bucarest, Roumanie
3 FORTH-IESL, BP. 1527, Heraklion-71110, Crète, Grèce
Résumé
On a analysé, par diffraction de rayons X, des couches minces de carbonitrures de tungstène et de titane obtenues par ablation laser réactive sur des cibles de tungstène et de titane dans une atmosphère de méthane (propane) à faible teneur en azote, sous basse pression. On a montré que les dépôts sont essentiellement constitués de carbures de tungstène et de nitrures de titane. On a obtenu des duretés d'environ 2600 GPa pour les couches à base de tungstène et de 2200 GPa pour les couches à base de titane.
Abstract
Thin films of tungsten and titanium carbonitrides have been prepared by reactive laser ablation of tungsten and titanium targets in a methane (propane) atmosphere with small amounts of nitrogen, at low pressure. The films have been investigated by X-ray diffiaction. It was shown that the films are mainly composed of tungsten carbides and titanium nitrides. The microhardness of the samples reaches 2600 GPa for tungsten based films and 2200 GPa for titanium based films.
© EDP Sciences 1996