Journal de Physique IV

Some recent developments in chemical vapor deposition process and equipment modeling

C.R. Kleijn, K.J. Kuijlaars, M. Okkerse, H. van Santen et H.E.A. van den Akker

J. Phys. IV France, 09 PR8 (1999) Pr8-117-Pr8-132

DOI: 10.1051/jp4:1999815

C.R. Kleijn

K.J. Kuijlaars

M. Okkerse

H. van Santen

H.E.A. van den Akker

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