Journal de Physique IV

PROCESSING OF WSi₂ FILMS BY LOW PRESSURE CHEMICAL VAPOR DEPOSITION FROM IN SITU CHLORINATION OF METAL

E. BLANQUET, N. THOMAS, P. SURYANARAYANA, C. VAHLAS, C. BERNARD et R. MADAR

J. Phys. IV France, 02 C2 (1991) C2-873-C2-880

DOI: 10.1051/jp4:19912104

E. BLANQUET

N. THOMAS

P. SURYANARAYANA

C. VAHLAS

C. BERNARD

R. MADAR

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