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Valence charges for ultrathin SiO₂ films formed on Si(100)

K. Hirose, M. Kihara, H. Okamoto, H. Nohira, E. Ikenaga, Y. Takata, K. Kobayashi et T. Hattori

J. Phys. IV France, 132 (2006) 83-86

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:2006132016

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