Développement d'une source plasma-laser pour la lithographie dans l'extrême ultraviolet G. Soullié, C. Lafon, R. Rosch, D. Babonneau, F. Garaude, S. Huelvan, T. Trublet, L. Bonnet et R. MarmoretJ. Phys. IV France, 108 (2003) 275-279DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:20030643
